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高真空蒸着装置 ED-1500 (code:B175)-ED-1500 (code:B175)
高真空蒸着装置 ED-1500 (code:B175)-株式会社サンバック

高真空蒸着装置 ED-1500 (code:B175)
株式会社サンバック

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この製品について

高真空蒸着装置ED-1500は金属・誘導体・半導体等を成膜するための蒸着装置です。電子銃10kWのルツボサイズが40mLと大きく、ルツボ点数も6点ありますので多層膜や数十ミクロンの成膜も可能です。排気系動作は自動。成膜制御も電子銃制御装置と水晶振動式膜厚計の連動により膜厚レートの制御を自動的に行います。

  • シリーズ

    高真空蒸着装置 ED-1500 (code:B175)

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高真空蒸着装置 ED-1500 (code:B175) 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 到達圧力 排気速度 真空室径 蒸着機構 蒸着機構 電子銃最大投入電力 蒸着機構 電子銃ルツボ容量 蒸着機構 電子銃ルツボ個数 蒸着機構 電子銃ビーム偏向角 蒸着機構 電子銃電源出力電圧 蒸着機構 電子銃電源出力電流 蒸着機構 抵抗加熱最大投入電力 蒸着機構 抵抗加熱電極数 基板形状 基板回転 基板加熱 真空排気系 真空計 操作方法 制御系 ユーティリティ 電気 ユーティリティ 計装エアー ユーティリティ 冷却水 ユーティリティ 乾燥窒素 装置寸法
高真空蒸着装置 ED-1500 (code:B175)-品番-ED-1500 (code:B175)

ED-1500 (code:B175)

要見積もり

×10-5Pa台※常温・無負荷・脱ガス完了時

大気圧から30分で9.0×10-4Pa台※常温・無負荷・脱ガス完了時

内寸:φ500mm×625mmH SUS304 電解研磨処理 前扉方式

電子銃方式・抵抗加熱方式

10kW

40.0mL

6個

270度

DC-4~-10kV

DC0~1,000mA

AC10V 200A

2対 (切替型)

□160mm以内もしくはφ8インチウエハー1枚固定可能

回転数:0~19rpm

最高温度:300℃ (基板表面上)

油回転ポンプ:670L/min[50Hz]
ターボ分子ポンプ:300L/sec

広帯域真空計

排気系全自動 (手動操作も可能) /成膜系全自動 (手動操作も可能)

独立制御盤型:タッチパネル/シーケンサー/サイリスタユニット/各種コントローラ

AC200V三相17.0kVA

圧力0.5MPa以上

流量11L/min以上 圧力0.03MPa以上0.1MPa以下 水温25℃以下循環

圧力0.05MPa以上0.1MPa以下

装置本体:990mmW×1,000mmD× (1,837) mmH
制御盤:570mmW×1,000mmD× (1,600) mmH
電子銃電源:500mmW×700mmD×710mmH

フィルターから探す

蒸着装置をフィルターから探すことができます

使用用途

#研究開発 #金属膜 #有機エレクトロニクス #電子顕微鏡試料 #多層膜 #電子部品半導体 #超高真空 #MBE #保護膜

蒸着方式

抵抗加熱蒸着型 電子ビーム蒸着型

成膜環境

真空蒸着型 高真空蒸着型 イナートガス雰囲気型

蒸着材料供給方式

単発源型 多元源型

特徴機能

自動制御型 高速成膜型 高精度厚さ制御型 クリーン対応型

排気時間 分

10 - 15 15 - 20 20 - 25

排気系主ポンプ

クライオポンプ 油拡散ポンプ ターボ分子ポンプ

操作方法

全自動 手動 自動

基板サイズ mm

50 - 100 100 - 200 200 - 300 300 - 1,000 1,000 - 3,000

チャンバーサイズ mm

150 - 200 200 - 250 250 - 300 300 - 350 350 - 400

蒸発方式

抵抗加熱 電子銃 高周波誘導加熱

基板加熱温度 ℃

100 - 500 500 - 800 800 - 1,000

膜厚分布 %

1 - 5 5 - 15

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会社概要

株式会社サンバックは真空装置のメーカーです。...

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