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高真空蒸着装置 ED-1500 (code:9464)-ED-1500 (code:9464)
高真空蒸着装置 ED-1500 (code:9464)-株式会社サンバック

高真空蒸着装置 ED-1500 (code:9464)
株式会社サンバック

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この製品について

高真空蒸着装置ED-1500は水晶振動式膜厚計搭載型抵抗加熱蒸着装置です。将来的に3元用電子銃の増設が可能。研究機構向けに開発された本装置は、抵抗加熱機構3対 (切替式) を装備し、真空状態のまま多層膜が可能です。また排気系はターボ分子ポンプを採用しておりますので、クリーンな排気が可能です。基板ヒーターはマイクロセラミックヒーターを採用しておりますので、300℃迄短時間で昇温します。基板回転機構も標準搭載した本装置は、膜厚分布の精度も±5%以内となっております。

  • シリーズ

    高真空蒸着装置 ED-1500 (code:9464)

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高真空蒸着装置 ED-1500 (code:9464) 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 到達圧力 真空室径 蒸着機構 基板形状 膜厚計 真空排気系 真空計 操作方法 制御系 ユーティリティ 電気 ユーティリティ 冷却水 ユーティリティ 寸法
高真空蒸着装置 ED-1500 (code:9464)-品番-ED-1500 (code:9464)

ED-1500 (code:9464)

要見積もり

7.0×10-4Pa以下※常温・無負荷・脱ガス時

φ500mm×550mmH SUS304 電解研磨

電子銃最大投入電力:2kW
ルツボ容量:1.0mL
ルツボ個数:3個
抵抗加熱最大電力:AC5/10V0.5kVA
抵抗電極数:3対 (バスケット状フィラメント)

27mm×70mm 2枚

水晶振動式膜厚計

油回転ポンプ:670/800L/min[50Hz/60Hz]
ターボ分子ポンプ:300L/sec

大気圧検知器/ピラニ真空計/電離真空計

ターボ分子ポンプコントローラ

手動

AC200V三相5kVA

6L/min以上0.1MPa以上0.15MPa以下25℃以下循環

装置架台本体:950mmW×870mmD× (1,513) mmH
制御盤:510mmW×800mmD× (1,860) mmH

フィルターから探す

蒸着装置をフィルターから探すことができます

使用用途

#研究開発 #金属膜 #有機エレクトロニクス #電子顕微鏡試料 #多層膜 #電子部品半導体 #超高真空 #MBE #保護膜

蒸着方式

抵抗加熱蒸着型 電子ビーム蒸着型

成膜環境

真空蒸着型 高真空蒸着型 イナートガス雰囲気型

蒸着材料供給方式

単発源型 多元源型

特徴機能

自動制御型 高速成膜型 高精度厚さ制御型 クリーン対応型

排気時間 分

10 - 15 15 - 20 20 - 25

排気系主ポンプ

クライオポンプ 油拡散ポンプ ターボ分子ポンプ

操作方法

全自動 手動 自動

基板サイズ mm

50 - 100 100 - 200 200 - 300 300 - 1,000 1,000 - 3,000

チャンバーサイズ mm

150 - 200 200 - 250 250 - 300 300 - 350 350 - 400

蒸発方式

抵抗加熱 電子銃 高周波誘導加熱

基板加熱温度 ℃

100 - 500 500 - 800 800 - 1,000

膜厚分布 %

1 - 5 5 - 15

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この商品の取り扱い会社情報

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会社概要

株式会社サンバックは真空装置のメーカーです。...

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