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シリーズ
高真空蒸着装置 RD-1400R取扱企業
株式会社サンバックカテゴリ
| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 到達圧力 | 排気速度 | 真空漏洩量 | 真空室径 | 蒸着機構 | 基板形状 | 膜厚計 | 真空排気系 | 冷却機構 | 真空計 | 操作方法 | ユーティリティ 電気 | ユーティリティ 冷却水 | ユーティリティ 寸法 | オプション |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|
RD-1400R |
要見積もり |
1.3×10-4Pa以下※常温・無負荷・液体窒素使用時 |
×10-4Pa台迄排気開始後10分以内※常温・無負荷・液体窒素使用時 |
1.0×10-10Pa・m3/sec Heリークデテクター検査 |
φ390mm×350mmH SUS304 |
抵抗加熱方式3対切替式 (ボート) |
φ340mm (φ4インチウエハー×5枚取付可能) |
水晶振動式膜厚計 |
油回転ポンプ：400L/min[60Hz] |
液体窒素トラップ 最大容積：1,900mL |
ピラニ真空計/電離真空計 |
自動 |
AC200V三相6.0kVA |
1.5L/min以上0.03MPa以上0.1MPa以下25℃以下循環 |
1,200mmW×1,075mmD×2,186mmH (液体窒素投入口含まず) |
単元電子銃 (-4kV 750mA) |
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蒸着装置の製品129点中、注目ランキング上位6点
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蒸着装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#研究開発 #金属膜 #有機エレクトロニクス #電子顕微鏡試料 #多層膜 #電子部品半導体 #超高真空 #MBE #保護膜蒸着方式
抵抗加熱蒸着型 電子ビーム蒸着型成膜環境
真空蒸着型 高真空蒸着型 イナートガス雰囲気型蒸着材料供給方式
単発源型 多元源型特徴機能
自動制御型 高速成膜型 高精度厚さ制御型 クリーン対応型排気時間 分
10 - 15 15 - 20 20 - 25排気系主ポンプ
クライオポンプ 油拡散ポンプ ターボ分子ポンプ操作方法
全自動 手動 自動基板サイズ mm
50 - 100 100 - 200 200 - 300 300 - 1,000 1,000 - 3,000チャンバーサイズ mm
150 - 200 200 - 250 250 - 300 300 - 350 350 - 400蒸発方式
抵抗加熱 電子銃 高周波誘導加熱基板加熱温度 ℃
100 - 500 500 - 800 800 - 1,000膜厚分布 %
1 - 5 5 - 15
