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シリーズ
高真空蒸着装置 RD-1350取扱企業
株式会社サンバックカテゴリ
| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 到達圧力 | 真空室径 | 開閉方法 | 蒸着機構 | 基板形状 | 膜厚計 | 基板加熱 | 真空排気系 | 真空計 | 制御系 | 操作方法 | ユーティリティ 電気 | ユーティリティ 冷却水 | ユーティリティ 計装エアー | ユーティリティ 寸法 | ユーティリティ 制御盤 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|
RD-1350 |
要見積もり |
5.0×10-4Pa以下※常温・無負荷・脱ガス時 |
φ350mm×350mmH水冷パイプ巻 SUS304 電解研磨 |
エアー駆動による上下開閉 |
抵抗加熱方式1対 (ボート) |
□30mm 1枚 |
水晶振動式膜厚計 |
ハロゲンランプ1.0kW×1式 |
ドライポンプ：233/267L/min[50Hz/60Hz] |
大気圧検知器/ピラニ真空計/電離真空計 |
ターボ分子ポンプパワーサプライ/デジタル温調計/プログラムコントローラ (蒸着制御) |
手動/自動 (排気系立ち上げ/蒸着準備/ベント/排気系立ち下げ：4種類) |
AC200V三相10kVA |
7L/min0.1MPa以上0.15MPa以下25℃以下循環 |
0.5MPa以上 |
装置架台本体：900mmW×850mmD× (1,875) mmH |
570mmW×630mmD× (1,600) mmH |
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蒸着装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#研究開発 #金属膜 #有機エレクトロニクス #電子顕微鏡試料 #多層膜 #電子部品半導体 #超高真空 #MBE #保護膜蒸着方式
抵抗加熱蒸着型 電子ビーム蒸着型成膜環境
真空蒸着型 高真空蒸着型 イナートガス雰囲気型蒸着材料供給方式
単発源型 多元源型特徴機能
自動制御型 高速成膜型 高精度厚さ制御型 クリーン対応型排気時間 分
10 - 15 15 - 20 20 - 25排気系主ポンプ
クライオポンプ 油拡散ポンプ ターボ分子ポンプ操作方法
全自動 手動 自動基板サイズ mm
50 - 100 100 - 200 200 - 300 300 - 1,000 1,000 - 3,000チャンバーサイズ mm
150 - 200 200 - 250 250 - 300 300 - 350 350 - 400蒸発方式
抵抗加熱 電子銃 高周波誘導加熱基板加熱温度 ℃
100 - 500 500 - 800 800 - 1,000膜厚分布 %
1 - 5 5 - 15
