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シリーズ
高真空蒸着装置 RD-1300 (code：8659)取扱企業
株式会社サンバックカテゴリ
| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 到達圧力 | 排気速度 | 真空漏洩量 | 真空室径 | 開閉方法 | 蒸着機構 | 基板冷却 | 真空排気系 | 真空計 | 操作方法 | ユーティリティ 電気 | ユーティリティ 冷却水 | ユーティリティ 計装エアー | ユーティリティ 寸法 装置架台本体 | ユーティリティ 寸法 制御盤 | ユーティリティ 寸法 クライオコンプレッサー | ユーティリティ 寸法 低温恒温水槽装置 | オプション |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|
RD-1300 (code：8659) |
要見積もり |
3.0×10-6Pa※常温・無負荷時 |
2.0×10-5Paまで60分以内※常温・無負荷時 |
1.0×10-10Pa・m3/sec Heリークデテクター検査 |
φ400mm×490mmH SUS304 電解研磨 |
モーター機構による上下開閉 |
抵抗加熱方式3対切替式 (フィラメント) |
-20℃~常温 (低温恒温水槽装置) |
ドライポンプ：250L/min[50Hz] |
大気圧検知器/クリスタルイオンゲージ (広帯域真空計) /ピラニ真空計 (クライオポンプ内用) |
排気系全自動 (手動も選択可) /蒸着機構 (手動/自動切替可能) /クライオ自動再生機構 |
AC200V三相10kVA AC100V単相20A |
2L/min以上0.1MPa以上0.15MPa以下25℃以下循環 |
0.5MPa以上 |
850mmW×850mmD× (1,783) mmH |
600mmW×600mmD× (2,035) mmH |
332mmW×543mmD×573mmH |
404mmW×515mmD×925mmH |
ガス導入機構 (マスフローコントローラ付) |
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蒸着装置の製品129点中、注目ランキング上位6点
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蒸着装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#研究開発 #金属膜 #有機エレクトロニクス #電子顕微鏡試料 #多層膜 #電子部品半導体 #超高真空 #MBE #保護膜蒸着方式
抵抗加熱蒸着型 電子ビーム蒸着型成膜環境
真空蒸着型 高真空蒸着型 イナートガス雰囲気型蒸着材料供給方式
単発源型 多元源型特徴機能
自動制御型 高速成膜型 高精度厚さ制御型 クリーン対応型排気時間 分
10 - 15 15 - 20 20 - 25排気系主ポンプ
クライオポンプ 油拡散ポンプ ターボ分子ポンプ操作方法
全自動 手動 自動基板サイズ mm
50 - 100 100 - 200 200 - 300 300 - 1,000 1,000 - 3,000チャンバーサイズ mm
150 - 200 200 - 250 250 - 300 300 - 350 350 - 400蒸発方式
抵抗加熱 電子銃 高周波誘導加熱基板加熱温度 ℃
100 - 500 500 - 800 800 - 1,000膜厚分布 %
1 - 5 5 - 15
