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シリーズ
高真空蒸着装置 RD-1300R (code：6495)取扱企業
株式会社サンバックカテゴリ
| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 到達圧力 | 排気速度 | 真空漏洩量 | 真空室径 | 蒸着機構 | 基板形状 | 基板回転 | 基板加熱 | 膜厚計 | 真空排気系 | 真空計 | 操作方法 | 制御系 | ユーティリティ 電気 | ユーティリティ 冷却水 | ユーティリティ 寸法 | オプション |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|
RD-1300R (code：6495) |
要見積もり |
1.0×10-3Pa以下※ワーク挿入時・常温時 |
6.7×10-3Pa迄本引開始後30分以内※ワーク挿入時・常温時 |
1.0×10-10Pa・m3/sec Heリークデテクター検査 |
φ300mm×400mmH 硬質ガラス |
抵抗加熱方式2対 (ボート) |
□100mm 1枚 |
φ180回転基板台 |
インコネル製ヒーター (ヒーター板：石英) |
水晶振動式膜厚計 |
油回転ポンプ：333L/min[50Hz] |
ピラニ真空計/電離真空計 |
手動 |
ターボ分子ポンプパワーサプライ/デジタル温調計 (ボート部測温) |
AC200V三相4kVA |
0.2L/min以上0.1MPa以上0.15MPa以下25℃以下循環 |
850mmW×800mmD×1,860mmH |
単元電子銃 (-4kV 750mA) |
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蒸着装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#研究開発 #金属膜 #有機エレクトロニクス #電子顕微鏡試料 #多層膜 #電子部品半導体 #超高真空 #MBE #保護膜蒸着方式
抵抗加熱蒸着型 電子ビーム蒸着型成膜環境
真空蒸着型 高真空蒸着型 イナートガス雰囲気型蒸着材料供給方式
単発源型 多元源型特徴機能
自動制御型 高速成膜型 高精度厚さ制御型 クリーン対応型排気時間 分
10 - 15 15 - 20 20 - 25排気系主ポンプ
クライオポンプ 油拡散ポンプ ターボ分子ポンプ操作方法
全自動 手動 自動基板サイズ mm
50 - 100 100 - 200 200 - 300 300 - 1,000 1,000 - 3,000チャンバーサイズ mm
150 - 200 200 - 250 250 - 300 300 - 350 350 - 400蒸発方式
抵抗加熱 電子銃 高周波誘導加熱基板加熱温度 ℃
100 - 500 500 - 800 800 - 1,000膜厚分布 %
1 - 5 5 - 15
