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| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 到達圧力 | 排気速度 | 真空室径 | 蒸着機構 | 基板形状 | 真空排気系 | 真空計 | 操作方法 | 制御系 | ユーティリティ 電気 | ユーティリティ 計装エアー | ユーティリティ 装置本体寸法 | ユーティリティ 装置本体重量 | ユーティリティ 制御盤寸法 | ユーティリティ 制御盤重量 | ユーティリティ 油回転ポンプ外形寸法 | ユーティリティ 油回転ポンプ重量 | オプション |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
RD-1230 |
要見積もり |
2.0×10-4Pa以下※常温・無負荷・脱ガス時 |
大気圧から30分で×10-4Pa台※常温・無負荷・脱ガス時 |
φ230mm×240mmH 硬質ガラス |
抵抗加熱方式 |
□100mm以内ご希望形状 |
油回転ポンプ：100L/min[50Hz] |
広帯域真空計 (マルチイオンゲージ/ピラニゲージ) |
排気系全自動 |
タッチパネル/シーケンサー/サイリスタユニット |
AC100V単相35A |
0.5MPa以上 |
510mmW×510mmD×790mmH以内 |
50kg以内 |
510mmW×510mmD×410mmH以内 |
50kg以内 |
234mmW×500.5mmD×264mmH |
23kg |
DC電源仕様、水晶振動式膜厚計他多数のオプション付加＆カスタマイズ可能 |
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蒸着装置の製品129点中、注目ランキング上位6点
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蒸着装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#研究開発 #金属膜 #有機エレクトロニクス #電子顕微鏡試料 #多層膜 #電子部品半導体 #超高真空 #MBE #保護膜蒸着方式
抵抗加熱蒸着型 電子ビーム蒸着型成膜環境
真空蒸着型 高真空蒸着型 イナートガス雰囲気型蒸着材料供給方式
単発源型 多元源型特徴機能
自動制御型 高速成膜型 高精度厚さ制御型 クリーン対応型排気時間 分
10 - 15 15 - 20 20 - 25排気系主ポンプ
クライオポンプ 油拡散ポンプ ターボ分子ポンプ操作方法
全自動 手動 自動基板サイズ mm
50 - 100 100 - 200 200 - 300 300 - 1,000 1,000 - 3,000チャンバーサイズ mm
150 - 200 200 - 250 250 - 300 300 - 350 350 - 400蒸発方式
抵抗加熱 電子銃 高周波誘導加熱基板加熱温度 ℃
100 - 500 500 - 800 800 - 1,000膜厚分布 %
1 - 5 5 - 15
