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| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 到達圧力 | 排気速度 | 真空室内寸 | 蒸着機構 | 基板ホルダー | 基板回転 | 膜厚計 | 真空排気系 | 真空計 | 操作方法 | ユーティリティ 電力 | ユーティリティ 冷却水 | ユーティリティ 水圧 | ユーティリティ 計装エアー | ユーティリティ 寸法 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
E505 |
要見積もり |
3.0×10-5Pa以下※常温・無負荷時・脱ガス完了時 |
3.0×10-4Pa以下迄自動排気開始後20分以内※常温・無負荷脱ガス完了時 |
508mmW×542mmD×656mmH SUS304 |
電子銃 (EB) 方式：2台 |
10mm角~100mm角の範囲の形状で設置可能 |
モーター駆動：0~10rpm[60Hz] |
水晶振動式膜厚計：3台 |
ドライポンプ：920L/min[60Hz] |
コールドカソードピラニ真空計 |
10インチ (TFT LCD カラー) タッチパネルによる操作 |
三相AC200V三相21.0kVA |
32.6L/min以上 |
0.2MPaG以下 (差圧0.1MpaG以上) 25℃以下循環 |
圧力0.5MPaG以上0.6MPaG以下 |
1,700mmW×1,400mmD×2,200mmH |
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蒸着装置の製品129点中、注目ランキング上位6点
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蒸着装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#研究開発 #金属膜 #有機エレクトロニクス #電子顕微鏡試料 #多層膜 #電子部品半導体 #超高真空 #MBE #保護膜蒸着方式
抵抗加熱蒸着型 電子ビーム蒸着型成膜環境
真空蒸着型 高真空蒸着型 イナートガス雰囲気型蒸着材料供給方式
単発源型 多元源型特徴機能
自動制御型 高速成膜型 高精度厚さ制御型 クリーン対応型排気時間 分
10 - 15 15 - 20 20 - 25排気系主ポンプ
クライオポンプ 油拡散ポンプ ターボ分子ポンプ操作方法
全自動 手動 自動基板サイズ mm
50 - 100 100 - 200 200 - 300 300 - 1,000 1,000 - 3,000チャンバーサイズ mm
150 - 200 200 - 250 250 - 300 300 - 350 350 - 400蒸発方式
抵抗加熱 電子銃 高周波誘導加熱基板加熱温度 ℃
100 - 500 500 - 800 800 - 1,000膜厚分布 %
1 - 5 5 - 15
