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アーク放電型イオンプレーティング装置 SIA-400T-SIA-400T
アーク放電型イオンプレーティング装置 SIA-400T-株式会社昭和真空

アーク放電型イオンプレーティング装置 SIA-400T
株式会社昭和真空



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この製品について

■表面硬化膜形成用/少量生産機・実験機に最適

アーク放電型カソードを搭載したイオンプレーティング装置です。TiN、TiAlN硬化膜の成膜が可能です。

■用途・応用例

切削工具、自動車・機械部品、各種金型

■特長

・切削工具等への表面硬化膜 (TiN、TiAlN膜) の成膜が可能です。 ・据付面積 (操作盤・ポンプユニット・電源含) はW3,000mm×D2,500mm内の省スペースです。 ・タッチパネル操作による成膜レシピ制御が可能です。 ・少量生産機・実験機として最適です。 ・高融点金属 (タングステンやモリブデン) の蒸発も可能です。

  • シリーズ

    アーク放電型イオンプレーティング装置 SIA-400T

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アーク放電型イオンプレーティング装置 SIA-400T 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 排気ポンプ 設置寸法 重量 電源容量 到達圧力 排気速度 基板加熱 蒸発源 所要電力 所要水量 所要圧空 ガス圧力 基板治具 据付面積
アーク放電型イオンプレーティング装置 SIA-400T-品番-SIA-400T

SIA-400T

要見積もり

TMP+RP

W2,800mm×D2,100mm×H2,000mm

1,400kg

本体:AC200V (3Φ) /約38.3kVA (110.5A)

1.2×10-3Pa以下

6.7×10-3Paまで15分以内

MAX350℃

10kW

本体 Φ3 200V 約38.3KVA (110.5A)

0.2MPa以上 (差圧) 、19L/min、20~25℃

0.7MPa (設定圧0.5MPa) 、接続口径Rc3/4

0.05MPa (設定圧0.02MPa) 、接続口径SWL1/4

・公転治具 MAX Φ200mm×H250mm
・自転治具 MAX Φ70mm×H250mm×5軸

・本機 約W1,600mm×D1,000mm×H1,600mm
・操作盤 約W565mm×D820mm×H1,800mm
・ポンプ架台 約W400mm×D800mm×H910mm

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使用用途

#半導体製造 #光学部品製造 #太陽電池製造 #ディスプレイ製造 #電池材料開発 #センサ開発 #薄膜トランジスタ開発 #表面改質 #機能性材料研究 #MEMS製造 #医療機器製造 #材料評価

到達圧力 Pa

0 - 0.01 0.01 - 1 1 - 10

基板サイズ mm

25 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 650

設置面積 m²

1 - 5 5 - 10 10 - 20

所要電力 kVA

10 - 15 15 - 20 20 - 25 25 - 30 30 - 35

真空槽 mm

500 - 800 800 - 1,000

基板バイアス V

0 - 5,000 5,000 - 25,000

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

株式会社昭和真空は、1958年に設立された、真空関連装置メーカーです。 2000年にはJASDAQ上場(現在は東証スタンダード市場)を果たします。 真空技術を中心とした、装置製造を軸としており、全て受注生産であることが...

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  • 本社所在地: 神奈川県

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