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エアロゾル化ガスデポジション (AGD) 装置 ノズル幅5mm×2本-ノズル幅5mm×2本
エアロゾル化ガスデポジション (AGD) 装置 ノズル幅5mm×2本-有限会社渕田ナノ技研

エアロゾル化ガスデポジション (AGD) 装置 ノズル幅5mm×2本
有限会社渕田ナノ技研



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この製品について

■概要

セラミックスの常温成膜装置である。微粒子を密閉容器に入れ、ガスを導入し、エアロゾルを作る。巻き上げられた粒子は、ガスと共に搬送管を経て、ノズルより対向する基板へ噴射堆積される。ガス搬送過程において摩擦帯電されたセラミックス粒子の高速噴射により、緻密なナノ粒子構造膜が形成される。

  • シリーズ

    エアロゾル化ガスデポジション (AGD) 装置 ノズル幅5mm×2本

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エアロゾル化ガスデポジション (AGD) 装置 ノズル幅5mm×2本 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) ノズル幅 (mm) ノズル本数 基材駆動 成膜サイズ (mm)
エアロゾル化ガスデポジション (AGD) 装置 ノズル幅5mm×2本-品番-ノズル幅5mm×2本

ノズル幅5mm×2本

要見積もり

5

2

50mm×50mm (2軸)

55×50

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使用用途

#半導体製造 #光学部品製造 #太陽電池製造 #ディスプレイ製造 #電池材料開発 #センサ開発 #薄膜トランジスタ開発 #表面改質 #機能性材料研究 #MEMS製造 #医療機器製造 #材料評価

到達圧力 Pa

0 - 0.01 0.01 - 1 1 - 10

基板サイズ mm

25 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 650

設置面積 m²

1 - 5 5 - 10 10 - 20

所要電力 kVA

10 - 15 15 - 20 20 - 25 25 - 30 30 - 35

真空槽 mm

500 - 800 800 - 1,000

基板バイアス V

0 - 5,000 5,000 - 25,000

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

有限会社渕田ナノ技研は、2004年に設立されたエアロゾル化ガスデポジション装置メーカーです。 製造拠点として茨城県に工場を設け、半導体基板の製造のために使用される密閉容器に入れられた微粒子をノズルで噴射することによって...

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  • 本社所在地: 茨城県
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