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MBE装置 研究用 RC2100取扱企業
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蒸着装置の製品91点中、注目ランキング上位6点
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| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 成長室 到達圧力 (Pa) | 基板 (ウエハ) サイズ×枚数 | 基板加熱温度 標準仕様 (制御用熱電対値) | 基板加熱温度 オプション仕様 (制御用熱電対値) | 分子線セルポート (サイズ×数) | 伸縮式フラックスモニター | 成長室イオンポンプ | 成長室ターボ分子ポンプ | クライオポンプ | RHEEDシステム (30KeV) | RHEEDスクリーンサイズ | 搬送室トランスファーロッド式 到達圧力 (Pa) | 搬送室トランスファーロッド式 イオンポンプ | 搬送室トランスファーロッド式 搬送機構 | レール搬送機構 | 搬送室回転伸縮アーム式 到達圧力 (Pa) | 搬送室回転伸縮アーム式 イオンポンプ | 搬送室回転伸縮アーム式 搬送機構 | 拡張ポート (サイズ×数) | 投入室 到達圧力 (Pa) | 投入室 ターボ分子ポンプ | 予備加熱機構 (Max500℃) | 基板保管機構 (4枚ストック) | 投入室 搬送機構 (回転伸縮の場合不要) | 操作パネル (タッチパネル) | 異常表示 | インターロック機能 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|
RC2100 |
要見積もり |
＜1.33×10^-8 |
φ2”×1 |
900℃ |
1,200℃ |
ICF114×8 |
標準装備 |
500 l/sec |
オプション |
オプション |
標準装備 |
ICF152 |
＜6.6×10^-7 |
150 l/sec |
トランスファーロッド式 |
オプション |
＜6.6×10^-7 |
300 l/sec |
回転伸縮アーム式 |
ICF152×2 |
＜1.33×10^-5 |
300 l/sec |
標準装備 |
標準装備 |
トランスファーロッド式またはレール式 |
標準装備 |
標準装備 |
標準装備 |
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