大気圧プラズマ装置スポット型
株式会社イー・スクエア

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この製品について

■弊社プラズマ処理の概要ここでは、コロナ処理や、アーク等を用いた装置ではなく、完全なるバルクプラズマを発生させた装置を主体に置き、説明しております。

 種々の電極構造を用い、窒素ガス・希ガス等をベースに高周波電力を電極に印可し、プラズマを発生させることにより励起ガス (ラジカル) が生成され、ワーク表面に官能基や水酸基、アミン基、その他の親水基の付与や酸化反応により、濡れ性や、塗布性能、有機物除去等の処理が可能になります。添加ガスを変えることにより、選択的に付与される分子を生成し、撥水化、還元等、薄膜deposition、ドライエッチング等の処理が可能になります。

 また、洗浄工程や、メッキ処理前のプラズマ処理により、表面活性化し薬液の反応性を高め、洗浄性能の向上や、気泡の除去等に役立ます。それらの処理に関して、ワーク (被処理物) の性格や、次工程への状況を踏まえ、下記に纏めるプラズマ装置選定時の最適化のご参考になれば幸いです。 

また、接着材を用いない接着剤レス接着に関して、銅箔、基材間との分子結合を主体とし、エッジ効果を排除した接着が可能で、今後の5G、6G向けのFCCL等の製造に寄与できるものと考えます。

■概要局部への処理を目的とし、強い処理が可能である為、有機残渣物の除去に有効。多軸ロボットアームに装着すれば3D形状にも対応可能。処理ガスとして空気が使用できる。安価 (200万円装置本体～) である。

■特徴・プラズマ密度が高く、狭所、局所への処理や有機残渣除去に効果的。
・ロボットアームに装着により3D形状にも対応可能。
・処理幅は5mm～30mm (ノズル回転の場合) 
・処理ガスはエアーにも対応している。
・小型・低価格
・処理後ワークの帯電はない。

■被処理物とプラズマ形態・シート状
・幅広平面への処理。
・無機表面
・ガラス
・金属表面
・金属酸化膜表面
・不織布状
・繊維束状
・グラスファイバー
・各種フィルム
・金型表面
・半導体
・ナノ粒子
・3D形状液晶基板 (ARRAY・CF・Cell) 
・タッチパネル基板
・その他電子部品
・光学レンズ (ガラス・プラスティック) 