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コンパクト・スモールフットプリント 高性能”有機物””金属膜”用真空蒸着装置 nanoPVD-T15A-nanoPVD-T15A
コンパクト・スモールフットプリント 高性能”有機物””金属膜”用真空蒸着装置 nanoPVD-T15A-テルモセラ・ジャパン株式会社

コンパクト・スモールフットプリント 高性能”有機物””金属膜”用真空蒸着装置 nanoPVD-T15A
テルモセラ・ジャパン株式会社



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この製品について

■概要

nanoPVD-T15A は、卓上・コンパクトサイズの高性能『有機膜・金属膜蒸着』装置です。温度応答性 / 安定性に優れた低温有機蒸着源 LTE1、金属膜用高温蒸着源 TE1-Box を採用。OLED, OPV, OTFT 等の有機薄膜蒸着用途に最適。又、ボックスシールドを備えた TE1-Box により指向性を制御し高い蒸着効率が得られます。『同時成膜 (*LTE のみ) 』『, 連続成膜』も可能、研究開発現場で多目的に活用いただけます。 基板加熱・上下昇降・回転、高精度真空計による自動圧力制御、水晶振動子膜厚モニタ、などのオプションも豊富。ご予算に応じ最小構成で導入後にオプション増設改造も可能です。

■優れた基本性能

・到達真空度 5x10-5 Pascal ・SUS304高真空チャンバー ・素早い真空到達 (10-3Paまで約10分) ・T/S調整距離:300mm 膜均一性の向上

■高機能システム

・自動多層連続成膜コントロール ・同時成膜 (*LTE有機ソースx2源のみ) ・PID自動膜厚コントロール ・真空引き/ベント自動運転

■洗練されたソフトウエア

・7”タッチスクリーン操作 直感的操作 ・30種類のレシピ登録 ・Windows PCとUSB接続 ・ログ解析、グラフ表示データ解析

■豊富なオプション

・基板回転, 上下昇降 ・加熱ヒーターMax500℃ ・基板、ソースシャッター ・ドライポンプ (RP標準) ・ファストベント (最短6分でベント完了)

■特徴

・到達圧力:5×10-5Pascal ・T/S距離 300mm, 均一な薄膜蒸着 ・直感的操作 多機能ソフトウエア ʻIntellidepʼ 最大30レシピ登録 多層連続膜操作も簡単

  • シリーズ

    コンパクト・スモールフットプリント 高性能”有機物””金属膜”用真空蒸着装置 nanoPVD-T15A

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コンパクト・スモールフットプリント 高性能”有機物””金属膜”用真空蒸着装置 nanoPVD-T15A 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 基板サイズ チャンバー 金属用蒸着源 有機蒸着源 真空ポンプ 真空計 水晶振動子膜厚モニタ 基板シャッター ソースシャッター フロントビューポート その他オプション 電源 冷却水 圧縮空気* ベントガス*
コンパクト・スモールフットプリント 高性能”有機物””金属膜”用真空蒸着装置 nanoPVD-T15A-品番-nanoPVD-T15A

nanoPVD-T15A

要見積もり

Φ2inch、又はΦ4inch

SUS304 内容積15l T/S距離300mm 到達圧力5x10-5Pascal

抵抗加熱式 金属蒸着源 TE1-Box 最大2源

抵抗加熱式 有機蒸着源 LTE1 最大4源 (1cc, or 5cc)

ターボ分子EXT75DX, ロータリーポンプRV3 (*ドライポンプオプション)

ワイドレンジピラニゲージ:10-9~1,000mbar

1基 (*最大2基) センサ・オシレータ・ケーブル・ソフトウエア付属

Φ2”基板シャッターx1 (*Φ4”基板用パドルシャッターオプション)

ソースシャッターx1 (*最大4)

Φ70mmフロントビューポート (シールドメッシュ)

基板加熱 (Max500℃) , 基板回転 , 上下昇降 , ファスト・ベント

200V 三相 10A 50/60Hz

1l/min 18~20℃ <400kpa (max.) Φ6mmクイック継手接続

415kpa~550kpa* Φ6mmクイック継手接続

50kpa (max.) * 純度99.995% Φ6mmクイック継手

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

半導体・電子部品などの研究・開発・製造プロセスに必要な要素である「熱」応用製品の販売を基盤とし、「基板加熱ヒーター」「温度計測機器」「実験炉」「薄膜実験装置」他企画開発商品の販売を行うことにより先端分野発展の一旦を担い、...

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  • 本社所在地: 東京都
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