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ダイヤモンド合成用HF-CVD装置 HFCVDシリーズ-HFCVD-6FHA
ダイヤモンド合成用HF-CVD装置 HFCVDシリーズ-アリオス株式会社

ダイヤモンド合成用HF-CVD装置 HFCVDシリーズ
アリオス株式会社

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この製品について

■概要

本装置は、ダイヤモンド合成を本格的に行うためのホットフィラメント型CVD装置です。基本システムに加え各種オプションを選択することにより、幅広いニーズに対応します。ダイヤモンドのホモエピタキシャル成長とヘテロエピタキシャル成長が可能です。 高純度のダイヤモンド合成実験が可能な単結晶ダイヤモンド合成用CVD装置「DCVD151シリーズ」や、 生産用途向けに、大面積かつ高速成長を実現したダイヤモンド合成用CVD装置「DCVD301B/601B」などのマイクロ波プラズマCVD装置もラインアップしています。

■特徴

・特許技術の2層式フィラメント構造や当社独自の加熱制御方式により、高速成長が可能 ・水冷式のチャンバーと電極により、長時間運用に対応 ・当社独自の自動圧力制御器 (APC) により、安定したプロセスを実現 ・放射温度計を標準搭載し、基板温度を正確に測定 ・タッチパネル式液晶モニターを採用し、自動レシピ運転が可能

■オプション

・ガス系統追加 (最大7系統まで) ・自動制御 (レシピ運転) ・フィラメント加熱電力増強 ・基板加熱機構

  • シリーズ

    ダイヤモンド合成用HF-CVD装置 HFCVDシリーズ

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ダイヤモンド合成用HF-CVD装置 HFCVDシリーズ 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 到達真空度 チャンバー材質/形状 チャンバー構成 排気系 圧力調整 真空計 制御方式 フィラメント加熱電力 基板冷却方式 温度測定 ガス供給系 試料ホルダー サイズ 移動 回転機構 基板サイズ (最大) リーク量 本体架台 用力 電力 用力 圧縮空気 用力 プロセスガス
ダイヤモンド合成用HF-CVD装置 HFCVDシリーズ-品番-HFCVD-6FHA

HFCVD-6FHA

要見積もり

5×10^-4Pa以下

SUS製 横型チャンバー

1チャンバー

ターボ分子ポンプ+ドライポンプ

自動圧力制御器 (APC)

フルレンジ真空計+隔膜真空計 (APC用)

タッチパネル (手動)

0~1.6kW連続可変 (定電流モード、定電力モード) ×2

水冷

放射温度計 (フィラメント用、基板用 各1台)

MFC2系統 (H2、CH4) 、最大7系統

φ80mm

基板回転機構 (モーター式:回転数可変0~30rpm)
ベローズ式上下移動機構 (ストローク50mm)

φ3インチ×1個

1.0×10^-8Pa・m^3/s以下 (Oリング透過分を除く)

キャスター、アジャスター付き (電源部を含む) 、重量約200kg

[本体]AC200V 三相 40A、[チラー]AC200V 単相 15A

0.5MPa

H2、CH4 (1/4"Swagelok or 1/4"VCR)

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会社概要

アリオス株式会社は、1972年に創業したプラズマ・真空装置製造メーカーです。 長年のプラズマ発生技術、イオン、電子利用技術開発で培ったノウハウもをとに、成膜装置、ラングミュアプローブ、ダイヤモンドCVD合成装置などの真...

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  • 本社所在地: 東京都
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