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ダイヤモンド合成用HF-CVD装置 HFCVDシリーズ取扱企業
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| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 到達真空度 | チャンバー材質/形状 | チャンバー構成 | 排気系 | 圧力調整 | 真空計 | 制御方式 | フィラメント加熱電力 | 基板冷却方式 | 温度測定 | ガス供給系 | 試料ホルダー サイズ | 移動 回転機構 | 基板サイズ (最大) | リーク量 | 本体架台 | 用力 電力 | 用力 圧縮空気 | 用力 プロセスガス |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|
HFCVD-6FHA |
要見積もり |
5×10^-4Pa以下 |
SUS製 横型チャンバー |
1チャンバー |
ターボ分子ポンプ＋ドライポンプ |
自動圧力制御器 (APC) |
フルレンジ真空計＋隔膜真空計 (APC用) |
タッチパネル (手動) |
0~1.6kW連続可変 (定電流モード、定電力モード) ×2 |
水冷 |
放射温度計 (フィラメント用、基板用 各1台) |
MFC2系統 (H2、CH4) 、最大7系統 |
φ80mm |
基板回転機構 (モーター式：回転数可変0~30rpm) |
φ3インチ×1個 |
1.0×10^-8Pa・m^3/s以下 (Oリング透過分を除く) |
キャスター、アジャスター付き (電源部を含む) 、重量約200kg |
［本体］AC200V 三相 40A、［チラー］AC200V 単相 15A |
0.5MPa |
H2、CH4 (1/4"Swagelok or 1/4"VCR) |
