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半導体製造装置 洗浄 (ポストCMP) 装置 MAT-ARW-681A-MAT-ARW-681A
半導体製造装置 洗浄 (ポストCMP) 装置 MAT-ARW-681A-北川グレステック株式会社

半導体製造装置 洗浄 (ポストCMP) 装置 MAT-ARW-681A
北川グレステック株式会社

💻 電子・電気機器業界用


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この製品について

■製品情報

試験・量産用のCMP装置を、ウェハサイズに合わせてご案内しております。また、お客様のご要望に応じたオーダーメイドも承っております。弊社テクニカルセンターで実機をご覧いただけます。

■製品について

研磨機と洗浄機が一体化されたDry-In/Dry-Out装置です。

  • シリーズ

    半導体製造装置 洗浄 (ポストCMP) 装置 MAT-ARW-681A
  • 利用シーン

    電子・電気機器業界用

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半導体製造装置 洗浄 (ポストCMP) 装置 MAT-ARW-681A 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜)
半導体製造装置 洗浄 (ポストCMP) 装置 MAT-ARW-681A-品番-MAT-ARW-681A

MAT-ARW-681A

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洗浄装置をフィルターから探すことができます

使用用途

#除菌殺菌 #乾燥 #精密洗浄 #異物除去 #脱脂 #油分除去 #容器洗浄 #タンク洗浄

洗浄方式

超音波洗浄型 スプレー洗浄型 浸漬洗浄型 真空洗浄型 アーチ旋回洗浄 スチーム洗浄 ブラシ洗浄 温水洗浄 乾式洗浄 高圧洗浄 循環洗浄 洗剤洗浄 超音波洗浄 噴射洗浄 泡洗浄 薬液洗浄

洗浄媒体

水系洗浄型 溶剤洗浄型

搬送方式

バッチ型 インライン型

乾燥方式

温風乾燥型 真空乾燥型

消費電力 kW

0 - 1 1 - 10 10 - 50 50 - 100 100 - 500

電源電圧 V

0 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 260

タンク容量

0 - 10 10 - 50 50 - 100 100 - 200 200 - 500 500 - 1,000 1,000 - 1,500 1,500 - 4,500

洗浄液

アルカリ性界面活性剤 ゲルピカラボ スチーム パインアルファ プロピレングリコール 市水 純水 水石鹸液 精製水 専用アルカリ洗剤 専用酵素洗剤 中性洗剤 溶剤

対象ワーク

ウェハー オリコン カブ ガラス瓶 クレート ゴボウ コンテナ プラスチックトレー マスク メタルマスク 基板 金型 人参 大根

駆動方式

ダブルモーター エア駆動 シングルモーター ギヤ駆動 軸流タービン コンベア駆動 ペルトン型タービン トリプルウォッシュ スパイラル搬送

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要


北川グレステック株式会社は、システム精工(株)とケメット・ジャパン(株)の2社が合併して誕生いたしました。
HDD研磨装置で培ったシステム精工の技術と、半導体や電子部品の研磨消耗品・受託加工で培ったケメ...

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  • 本社所在地: 千葉県
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