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半導体製造装置 洗浄 (ポストCMP) 装置 MAT-ARW-681A-MAT-ARW-681A
半導体製造装置 洗浄 (ポストCMP) 装置 MAT-ARW-681A-北川グレステック株式会社

半導体製造装置 洗浄 (ポストCMP) 装置 MAT-ARW-681A
北川グレステック株式会社



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この製品について

■製品情報

試験・量産用のCMP装置を、ウェハサイズに合わせてご案内しております。また、お客様のご要望に応じたオーダーメイドも承っております。弊社テクニカルセンターで実機をご覧いただけます。

■製品について

研磨機と洗浄機が一体化されたDry-In/Dry-Out装置です。

  • シリーズ

    半導体製造装置 洗浄 (ポストCMP) 装置 MAT-ARW-681A

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半導体製造装置 洗浄 (ポストCMP) 装置 MAT-ARW-681A 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜)
半導体製造装置 洗浄 (ポストCMP) 装置 MAT-ARW-681A-品番-MAT-ARW-681A

MAT-ARW-681A

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

北川グレステック株式会社は、ダイヤモンド研磨材による精密研磨のトップブランドKemet International社の製品やCMP装置・消耗品を取り扱う商社です。

ダイヤモンド研磨材・研磨装置の日本代理...

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  • 本社所在地: 千葉県
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