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真空蒸着装置 小型デスクトップ高真空蒸着装置 VE-2013-VE-2013
真空蒸着装置 小型デスクトップ高真空蒸着装置 VE-2013-株式会社真空デバイス

真空蒸着装置 小型デスクトップ高真空蒸着装置 VE-2013
株式会社真空デバイス

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この製品について

真空蒸着装置とは、真空雰囲気の中で材料を気化蒸発させ、サンプルに薄膜を成膜する装置です。ターボ分子ポンプを利用した高真空下で成膜することが一般的で、不純物の無い膜を作ることが可能です。 真空デバイスの蒸着装置は、シーケンスプログラム制御された操作で簡単に高真空領域の環境を作ることができ、研究開発に最適な小型で安価なラインナップが特徴です。大気圧から10x10⁻⁴Pa領域までの到達時間はおよそ5分間。従来の古いシステムから切り替えることで研究開発のスピードを加速させます。

  • シリーズ

    真空蒸着装置 小型デスクトップ高真空蒸着装置 VE-2013

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真空蒸着装置 小型デスクトップ高真空蒸着装置 VE-2013 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) ヒーター電極 蒸着対象金属 試料ステージ 蒸着源-試料間隔 チャンバーサイズ 電極間電圧/電流 排気系 真空度測定 到達真空度 安全対策 装置サイズ 電源
真空蒸着装置 小型デスクトップ高真空蒸着装置 VE-2013-品番-VE-2013

VE-2013

要見積もり

1対(2対タイプはオプション)

金・アルミ・クロム・銀・カーボンその他

直径72mm

0mm~140mm

内径160mmx深さ235mm

AC15V、0~30Aタッチパネル表示

TMP67ℓ/sec+RP50ℓ/min

タッチパネル表示フルレンジ真空計

5×10-4Pa以下

系統別サーキットプロテクタ、過剰負荷を自動でブロック

W428×D430×H550(mm)38Kg

単層AC100V,15Aアース線付3芯プラグ使用

フィルターから探す

蒸着装置をフィルターから探すことができます

排気時間 分

10 - 15 15 - 20 20 - 25

排気系主ポンプ

クライオポンプ 油拡散ポンプ ターボ分子ポンプ

操作方法

全自動 手動 自動

基板サイズ mm

50 - 100 100 - 200 200 - 300 300 - 1000 1000 - 3000

チャンバーサイズ mm

150 - 200 200 - 250 250 - 300 300 - 350 350 - 400

蒸発方式

抵抗加熱 電子銃 高周波誘導加熱

基板加熱温度 ℃

100 - 500 500 - 800 800 - 1000

膜厚分布 %

1 - 5 5 - 15

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この商品の取り扱い会社情報

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会社概要

株式会社真空デバイスは、真空技術を使った電子顕微鏡周辺機器と実験用途向けの真空装置を開発している企業です。 主な製品は、マグネトロンスパッタ装置やプラズマCVD装置、蒸着装置プラズマ処理装置・凍結乾燥装置などを展開して...

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  • 本社所在地: 茨城県
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