制御・計測・センシング
駆動・機械要素・電子制御部品
産業別カテゴリ
電源・エネルギー・熱処理機器
安全・保護・環境対策
材料・素材・ケミカル
電気・電子部品
構造部品・締結要素
ソフトウェア・ネットワーク
サービス
その他
全てのカテゴリ
閲覧履歴
返答率
100.0%
返答時間
93.7時間
電源入力
3ΦAC200V±10% 50／60Hz 約25kVA
真空槽サイズ
片面扉式、サイズ410mm×410mm×410mm (約70L)
制御方式
手動運転／自動運転 (タッチパネル入力)
排気完了真空圧力
1.33×10-3Pa以下 (1.33×10-3Pa以上なら設定変更可能)
真空ポンプ
ターボ分子ポンプ、メカニカルブースターポンプ、ロータリーポンプ
ガス圧力コントロール
自動圧力制御弁 (200Aフランジ)
真空計
電離真空計、ピラニ真空計、隔膜真空計、デジタル圧力スイッチ
マスフローコントローラ
7系統 (Ar、H2、CH4、C2H2、N2、C6H5CH3、HMDSO)
高圧パルス電源
出力電圧-20kVp、出力電流 10Ap、充電容量1.5kW 出力パルス立上り1μs以下 (但し抵抗負荷時) 繰返し周波数 500Hz~5,000 Hz
パルスRF電源
750W (13.56MHz) (1,500Wに仕様変更可能)
標準計測器
デジタルオシロスコープ (出力電圧、出力電流)
サイズ
真空装置：2,150 (W) ×1,705 (H) ×900 (D) mm 操作盤：1,210 (W) ×1,685 (H) ×800 (D) mm 高圧パルス電源盤：850 (W) ×1,730 (H) ×940 (D) mm
型番
PBII―R450取扱企業
株式会社栗田製作所カテゴリ
| 商品画像 | 価格 (税抜) | 電源入力 | 真空槽サイズ | 制御方式 | 排気完了真空圧力 | 真空ポンプ | ガス圧力コントロール | 真空計 | マスフローコントローラ | 高圧パルス電源 | パルスRF電源 | 標準計測器 | サイズ | オプション |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|
要見積もり | 3ΦAC200V±10% 50／60Hz 約25kVA | 片面扉式、サイズ410mm×410mm×410mm (約70L) | 手動運転／自動運転 (タッチパネル入力) | 1.33×10-3Pa以下 (1.33×10-3Pa以上なら設定変更可能) | ターボ分子ポンプ、メカニカルブースターポンプ、ロータリーポンプ | 自動圧力制御弁 (200Aフランジ) | 電離真空計、ピラニ真空計、隔膜真空計、デジタル圧力スイッチ | 7系統 (Ar、H2、CH4、C2H2、N2、C6H5CH3、HMDSO) |
出力電圧-20kVp、出力電流 10Ap、充電容量1.5kW 出力パルス立上り1μs以下 (但し抵抗負荷時) 繰返し周波数 500Hz~5,000 Hz |
750W (13.56MHz) (1,500Wに仕様変更可能) | デジタルオシロスコープ (出力電圧、出力電流) |
真空装置：2,150 (W) ×1,705 (H) ×900 (D) mm 操作盤：1,210 (W) ×1,685 (H) ×800 (D) mm 高圧パルス電源盤：850 (W) ×1,730 (H) ×940 (D) mm |
冷却水用チラー、排ガス処理装置、コンプレッサー |
もっと見る
成膜装置の製品187点中、注目ランキング上位6点
電話番号不要
何社からも電話が来る心配はありません
一括見積もり
複数社に同じ内容の記入は不要です
返答率96%
96%以上の方が返答を受け取っています
返答時間が24時間以内の企業の中での注目ランキング
電話番号不要
何社からも電話が来る心配はありません
一括見積もり
複数社に同じ内容の記入は不要です
返答率96%
96%以上の方が返答を受け取っています
成膜装置の中でこの商品と同じ値をもつ製品
成膜方式がCVD法の製品
CV-3100 | 成膜装置 ロールコーター 全固体電池用マルチチャンバーSP装置 (両面型) CV-3100
株式会社C&Vテクニクス
460人以上が見ています
返答時間: 75.60時間
成膜装置
CV-3200 | 成膜装置 ロールコーター 全固体電池用マルチチャンバーSP装置 (両面型) CV-3200
株式会社C&Vテクニクス
380人以上が見ています
返答時間: 75.60時間
成膜装置
CV-3300 | 成膜装置 ロールコーター 全固体電池用マルチチャンバーSP装置 (両面型) CV-3300
株式会社C&Vテクニクス
340人以上が見ています
返答時間: 75.60時間
成膜装置
CV-2100 | 成膜装置 ロールコーター 全固体電池用マルチチャンバーSP装置 (両面型) CV-2100
株式会社C&Vテクニクス
350人以上が見ています
返答時間: 75.60時間
成膜装置
CV-2200 | 成膜装置 ロールコーター 全固体電池用マルチチャンバーSP装置 (両面型) CV-2200
株式会社C&Vテクニクス
330人以上が見ています
返答時間: 75.60時間
成膜装置
CV-2300 | 成膜装置 ロールコーター 全固体電池用マルチチャンバーSP装置 (両面型) CV-2300
株式会社C&Vテクニクス
340人以上が見ています
返答時間: 75.60時間
成膜装置
CV-1100 | 成膜装置 ロールコーター 全固体電池用マルチチャンバーSP装置 (両面型) CV-1100
株式会社C&Vテクニクス
360人以上が見ています
返答時間: 75.60時間
成膜装置成膜装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#半導体製造 #光学部品製造 #太陽電池製造 #ディスプレイ製造 #電池材料開発 #センサ開発 #薄膜トランジスタ開発 #表面改質 #機能性材料研究 #MEMS製造 #医療機器製造 #材料評価成膜方式
蒸着法 スパッタリング法 CVD法 ALD法 溶液法構成環境
真空型 低圧型プラズマ利用有無
プラズマ無し プラズマ援用型 高周波プラズマ型基板搬送方式
固定基板型 回転基板型 ロール搬送型到達圧力 Pa
0 - 0.01 0.01 - 1 1 - 10基板サイズ mm
25 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 650設置面積 m²
1 - 5 5 - 10 10 - 20所要電力 kVA
10 - 15 15 - 20 20 - 25 25 - 30 30 - 35真空槽 mm
500 - 800 800 - 1,000基板バイアス V
0 - 5,000 5,000 - 25,000
