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DLC成膜装置 PBII&D装置 R&D小型機仕様 PBII―R450-株式会社栗田製作所

全型番で同じ値の指標

電源入力

3ΦAC200V±10% 50/60Hz 約25kVA

真空槽サイズ

片面扉式、サイズ410mm×410mm×410mm (約70L)

制御方式

手動運転/自動運転 (タッチパネル入力)

排気完了真空圧力

1.33×10-3Pa以下 (1.33×10-3Pa以上なら設定変更可能)

真空ポンプ

ターボ分子ポンプ、メカニカルブースターポンプ、ロータリーポンプ

ガス圧力コントロール

自動圧力制御弁 (200Aフランジ)

真空計

電離真空計、ピラニ真空計、隔膜真空計、デジタル圧力スイッチ

マスフローコントローラ

7系統 (Ar、H2、CH4、C2H2、N2、C6H5CH3、HMDSO)

高圧パルス電源

出力電圧-20kVp、出力電流 10Ap、充電容量1.5kW 出力パルス立上り1μs以下 (但し抵抗負荷時) 繰返し周波数 500Hz~5,000 Hz

パルスRF電源

750W (13.56MHz) (1,500Wに仕様変更可能)

標準計測器

デジタルオシロスコープ (出力電圧、出力電流)

サイズ

真空装置:2,150 (W) ×1,705 (H) ×900 (D) mm 操作盤:1,210 (W) ×1,685 (H) ×800 (D) mm 高圧パルス電源盤:850 (W) ×1,730 (H) ×940 (D) mm

この製品について

■概要

サイズがコンパクトの為、試験片作成や基礎データ採取に最適な装置になっております。真空排気時間も非常に短く、実験時間の短縮にもつながります。

  • 型番

    PBII―R450

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DLC成膜装置 PBII&D装置 R&D小型機仕様 PBII―R450 PBII―R450の性能表

商品画像 価格 (税抜) 電源入力 真空槽サイズ 制御方式 排気完了真空圧力 真空ポンプ ガス圧力コントロール 真空計 マスフローコントローラ 高圧パルス電源 パルスRF電源 標準計測器 サイズ オプション
DLC成膜装置 PBII&D装置 R&D小型機仕様 PBII―R450-品番-PBII―R450 要見積もり 3ΦAC200V±10% 50/60Hz 約25kVA 片面扉式、サイズ410mm×410mm×410mm (約70L) 手動運転/自動運転 (タッチパネル入力) 1.33×10-3Pa以下 (1.33×10-3Pa以上なら設定変更可能) ターボ分子ポンプ、メカニカルブースターポンプ、ロータリーポンプ 自動圧力制御弁 (200Aフランジ) 電離真空計、ピラニ真空計、隔膜真空計、デジタル圧力スイッチ 7系統 (Ar、H2、CH4、C2H2、N2、C6H5CH3、HMDSO) 出力電圧-20kVp、出力電流 10Ap、充電容量1.5kW
出力パルス立上り1μs以下 (但し抵抗負荷時)
繰返し周波数 500Hz~5,000 Hz
750W (13.56MHz) (1,500Wに仕様変更可能) デジタルオシロスコープ (出力電圧、出力電流) 真空装置:2,150 (W) ×1,705 (H) ×900 (D) mm
操作盤:1,210 (W) ×1,685 (H) ×800 (D) mm
高圧パルス電源盤:850 (W) ×1,730 (H) ×940 (D) mm

冷却水用チラー、排ガス処理装置、コンプレッサー


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