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返答時間
39.6時間
型番
真空蒸着装置シリーズ
真空応用装置 真空蒸着装置取扱企業
フジ・インバック株式会社カテゴリ
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蒸着装置の製品93点中、注目ランキング上位6点
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| 商品画像 | 価格 (税抜) | 基板サイズ | 基板加熱温度 | 蒸発源 | 真空ポンプ | 到達真空 |
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要見積もり | 2インチ | 700℃ (MAX) | 抵抗加熱2系統 | TMP＆RP | 3.0×10-8Torr |
蒸着装置の中でこの商品と同じ値をもつ製品
使用用途が蒸着の製品
蒸着装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#研究開発 #金属膜 #有機エレクトロニクス #電子顕微鏡試料 #多層膜 #電子部品半導体 #超高真空 #MBE #保護膜排気時間 分
10 - 15 15 - 20 20 - 25排気系主ポンプ
クライオポンプ 油拡散ポンプ ターボ分子ポンプ操作方法
全自動 手動 自動基板サイズ mm
50 - 100 100 - 200 200 - 300 300 - 1,000 1,000 - 3,000チャンバーサイズ mm
150 - 200 200 - 250 250 - 300 300 - 350 350 - 400蒸発方式
抵抗加熱 電子銃 高周波誘導加熱基板加熱温度 ℃
100 - 500 500 - 800 800 - 1,000膜厚分布 %
1 - 5 5 - 15
