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超親水性
酸化チタンの光触媒膜
酸化防止
半導体の接点部分に金を成膜
MEMS
微細構造を成膜とエッチングにより作成
微細磁気記録
磁気ヘッドの高透磁率磁性膜で極薄のヨークを形成
レアメタルの使用量削減
触媒用白金を表面だけに成膜
電磁波シールド
薄膜にすることで軽量化、小型化を実現
サーマルヘッドの発熱体
微細な発熱部を薄膜で作成
透明導電膜
フラットパネルディスプレー等
照明器具の反射板
LEDのケース
各種光学フィルター
CCD用赤外線カットや、プロジェクター光源の分光フィルター
反射防止膜
メガネやカメラのレンズコーティング
装飾品
化粧品容器、家電製品等のプラスチックに金属を真空メッキ
静電破壊防止、電磁波透過
携帯電話、家電製品の筐体装飾 (不連続膜；金属色であるが電気は流れない)
可視光反射及び赤外光透過
ハロゲンランプのコールドミラー
水素センサー
水素吸収による光透過率の変化により検出
型番
キット取扱企業
入江株式会社カテゴリ
Metoree経由で見積もり
2025年6月20日にレビュー済み
顧客対応への満足度
早急に対応して頂いて良かった。今後も利用したいと、おもった
初回対応までの時間への満足度
0.33時間
Metoree経由で見積もり
2024年12月13日にレビュー済み
顧客対応への満足度
当日返信、翌日に概算の見積もりをいただきました。
初回対応までの時間への満足度
13.76時間
Metoree経由で見積もり
2024年5月20日にレビュー済み
顧客対応への満足度
全体的に対応が迅速で、非常に好印象でした。
初回対応までの時間への満足度
0.65時間
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成膜装置の製品185点中、注目ランキング上位6点
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返答率96%
96%以上の方が返答を受け取っています
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| 商品画像 | 価格 (税抜) | 超親水性 | 酸化防止 | MEMS | 微細磁気記録 | レアメタルの使用量削減 | 電磁波シールド | サーマルヘッドの発熱体 | 透明導電膜 | 照明器具の反射板 | 各種光学フィルター | 反射防止膜 | 装飾品 | 静電破壊防止、電磁波透過 | 可視光反射及び赤外光透過 | 水素センサー |
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要見積もり | 酸化チタンの光触媒膜 | 半導体の接点部分に金を成膜 | 微細構造を成膜とエッチングにより作成 | 磁気ヘッドの高透磁率磁性膜で極薄のヨークを形成 | 触媒用白金を表面だけに成膜 | 薄膜にすることで軽量化、小型化を実現 | 微細な発熱部を薄膜で作成 | フラットパネルディスプレー等 | LEDのケース | CCD用赤外線カットや、プロジェクター光源の分光フィルター | メガネやカメラのレンズコーティング | 化粧品容器、家電製品等のプラスチックに金属を真空メッキ |
携帯電話、家電製品の筐体装飾 (不連続膜；金属色であるが電気は流れない) |
ハロゲンランプのコールドミラー | 水素吸収による光透過率の変化により検出 |
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360人以上が見ています
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CV-1100 | 成膜装置 ロールコーター 全固体電池用マルチチャンバーSP装置 (両面型) CV-1100
株式会社C&Vテクニクス
260人以上が見ています
返答時間: 75.60時間
成膜装置成膜装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#半導体製造 #光学部品製造 #太陽電池製造 #ディスプレイ製造 #電池材料開発 #センサ開発 #薄膜トランジスタ開発 #表面改質 #機能性材料研究 #MEMS製造 #医療機器製造 #材料評価成膜方式
蒸着法 スパッタリング法 CVD法 ALD法 溶液法構成環境
真空型 低圧型プラズマ利用有無
プラズマ無し プラズマ援用型 高周波プラズマ型基板搬送方式
固定基板型 回転基板型 ロール搬送型到達圧力 Pa
0 - 0.01 0.01 - 1 1 - 10基板サイズ mm
25 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 650設置面積 m²
1 - 5 5 - 10 10 - 20所要電力 kVA
10 - 15 15 - 20 20 - 25 25 - 30 30 - 35真空槽 mm
500 - 800 800 - 1,000基板バイアス V
0 - 5,000 5,000 - 25,000
