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・真空排気系は冷却水不要の67L/secTMP+50L/minRPと全電磁バルブよりなる全自動排気系です。液体窒素トラップ無しで10-5Paの超高真空領域に入ります。 ・TMP排気系は始動,停止時の過熱・冷却時間が不用です。試料をセットしスイッチONで高真空排気に入り、作業終了後はスイッチOFFで停止作業終了。 ・TEMやSEMの絞り類のベーキングも短時間で完了し、時間の節約になります。 ・メタルコーティングやシャドーイングは超微粒子蒸着となり解像度が向上します。 ・カーボンコーティングも丈夫で緻密な蒸着膜になります。カーボン補強や支持膜作成に効果を発揮します。 ・停電時は全バルブが自動で閉じ、真空が保持されます。ロータリポンプのみ自動的にエアリークされます。停電が回復したらEVACSTARTのみで停電前の状態に復帰します。 ・入力スイッチはサーキットプロテクタです。装置内の電気回路に異常が発生すると自動的にOFFになります。
真空槽
内径200mm×高さ270mm、下部110mmは金属製、上部160mmは硬質ガラス製。金属部に内径55mmのサービスポートを設置
試料ステージ
直径60mm水平試料台(標準装着)。モーター駆動、回転・傾斜試料台はオプション
加熱用電極柱
2対4本、スイッチ切り換えにより選択使用。柱は着脱自由。絞り焼きボート支持電極1対標準付属。タングステンバスケットによる金属蒸着が可能。チャンバー大気解放時、感電防止の為のインターロックSW付。
ヒータ電源
AC15V,50A。サイリスタ制御、電流計指示
蒸着可能面積
柱利用、上からの蒸着時=直径100mm以内。下からの蒸着時=直径180mm程度まで。
真空排気系統
TMP(67L/sec)+ロータリポンプ(50L/min)
真空度測定
フルレンジ真空計(標準装備)
到達真空度
5×10-4Pa以下
安全対策
停電時;全電磁バルブ閉、PRにエアリーク。停電回復時;真空系統は停止状態を保持。EVACSTARTで停電前の状態に復帰。回路内過電流対策;15A超でサーキットプロテクタ作動、入力断。PR回路、真空排気系統、電極柱系電源回路別に溶断入力フューズ採用。
入力電源
AC100V,15A(単相)
装置サイズ
幅500mm×奥行き574mm×高さ1073mm。重量=80kg(4輪ストッパー付キャスター装備)
型番
VE-2030取扱企業
株式会社真空デバイスカテゴリ
Metoree経由で見積もり
2025年6月3日にレビュー済み
顧客対応への満足度
非常に迅速で丁寧なご対応を頂きました。感謝申し上げます。
初回対応までの時間への満足度
44.35時間
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蒸着装置の製品93点中、注目ランキング上位6点
電話番号不要
何社からも電話が来る心配はありません
一括見積もり
複数社に同じ内容の記入は不要です
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商品画像 | 価格 (税抜) | 真空槽 | 試料ステージ | 加熱用電極柱 | ヒータ電源 | 蒸着可能面積 | 真空排気系統 | 真空度測定 | 到達真空度 | 安全対策 | 入力電源 | 装置サイズ |
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要見積もり | 内径200mm×高さ270mm、下部110mmは金属製、上部160mmは硬質ガラス製。金属部に内径55mmのサービスポートを設置 | 直径60mm水平試料台(標準装着)。モーター駆動、回転・傾斜試料台はオプション | 2対4本、スイッチ切り換えにより選択使用。柱は着脱自由。絞り焼きボート支持電極1対標準付属。タングステンバスケットによる金属蒸着が可能。チャンバー大気解放時、感電防止の為のインターロックSW付。 | AC15V,50A。サイリスタ制御、電流計指示 | 柱利用、上からの蒸着時=直径100mm以内。下からの蒸着時=直径180mm程度まで。 | TMP(67L/sec)+ロータリポンプ(50L/min) | フルレンジ真空計(標準装備) | 5×10-4Pa以下 | 停電時;全電磁バルブ閉、PRにエアリーク。停電回復時;真空系統は停止状態を保持。EVACSTARTで停電前の状態に復帰。回路内過電流対策;15A超でサーキットプロテクタ作動、入力断。PR回路、真空排気系統、電極柱系電源回路別に溶断入力フューズ採用。 | AC100V,15A(単相) | 幅500mm×奥行き574mm×高さ1073mm。重量=80kg(4輪ストッパー付キャスター装備) |
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蒸着装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#研究開発 #金属膜 #有機エレクトロニクス #電子顕微鏡試料 #多層膜 #電子部品半導体 #超高真空 #MBE #保護膜排気時間 分
10 - 15 15 - 20 20 - 25排気系主ポンプ
クライオポンプ 油拡散ポンプ ターボ分子ポンプ操作方法
全自動 手動 自動基板サイズ mm
50 - 100 100 - 200 200 - 300 300 - 1,000 1,000 - 3,000チャンバーサイズ mm
150 - 200 200 - 250 250 - 300 300 - 350 350 - 400蒸発方式
抵抗加熱 電子銃 高周波誘導加熱基板加熱温度 ℃
100 - 500 500 - 800 800 - 1,000膜厚分布 %
1 - 5 5 - 15