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返答率
100.0%
返答時間
254.6時間
主要部材質
SUS304 (但し、加熱ローターSUS316L)
加熱方式
液相熱媒加熱
加熱温度
~260℃
到達圧力 (真空度)
1.0Pa
ローター径
φ400mm
伝熱面積
0.15m2
ローター回転数
1,000rpm
ローター加熱ヒーター
10kW
原液供給量
~50kg/hr
凝縮器冷却方式
空冷または水冷
コールドトラップ冷却方式
冷凍機冷却または寒剤投入方式
型番
CEH-400BⅡシリーズ
遠心式薄膜蒸発機 CEHシリーズ取扱企業
アルバック販売株式会社カテゴリ
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蒸着装置の製品112点中、注目ランキング上位6点
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| 商品画像 | 価格 (税抜) | 主要部材質 | 加熱方式 | 加熱温度 | 到達圧力 (真空度) | ローター径 | 伝熱面積 | ローター回転数 | ローター加熱ヒーター | 原液供給量 | 凝縮器冷却方式 | コールドトラップ冷却方式 |
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要見積もり | SUS304 (但し、加熱ローターSUS316L) | 液相熱媒加熱 | ~260℃ | 1.0Pa | φ400mm | 0.15m2 | 1,000rpm | 10kW | ~50kg/hr | 空冷または水冷 | 冷凍機冷却または寒剤投入方式 |
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蒸着装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#研究開発 #金属膜 #有機エレクトロニクス #電子顕微鏡試料 #多層膜 #電子部品半導体 #超高真空 #MBE #保護膜排気時間 分
10 - 15 15 - 20 20 - 25排気系主ポンプ
クライオポンプ 油拡散ポンプ ターボ分子ポンプ操作方法
全自動 手動 自動基板サイズ mm
50 - 100 100 - 200 200 - 300 300 - 1,000 1,000 - 3,000チャンバーサイズ mm
150 - 200 200 - 250 250 - 300 300 - 350 350 - 400蒸発方式
抵抗加熱 電子銃 高周波誘導加熱基板加熱温度 ℃
100 - 500 500 - 800 800 - 1,000膜厚分布 %
1 - 5 5 - 15
