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温水循環装置のメーカー13社一覧や企業ランキングを掲載中！温水循環装置関連企業の2025年5月注目ランキングは1位:株式会社レイケン、2位:株式会社ヤガミ、3位:東京理化器械株式会社となっています。 温水循環装置の概要、用途、原理もチェック！
温水循環装置とは、温水を効率的に供給する装置です。
低温に冷却する目的で使う装置は冷水循環装置、常温より高く加熱する目的で使う装置は温水循環装置と呼びます。温水循環装置は常温から＋200℃の高温液の循環まで幅広い温度域と流量を持つ様々な種類があるので、目的に応じて適切な機種を選ぶことが可能です。
また、温水循環装置は自動制御システムを備えています。センサーやタイマーを利用して、需要が少ない時間帯にはポンプの動作を抑制し、必要な時にのみポンプを起動させることもできます。
2025年5月の注目ランキングベスト10
| 順位 | 会社名 | クリックシェア |
|---|---|---|
| 1 | 株式会社レイケン |
25.3%
|
| 2 | 株式会社ヤガミ |
11.6%
|
| 3 | 東京理化器械株式会社 |
10.5%
|
| 4 | 株式会社ナオミ |
10.5%
|
| 5 | 高北機工株式会社 |
6.3%
|
| 6 | 末次興産株式会社 |
6.3%
|
| 7 | タイテック株式会社 |
6.3%
|
| 8 | 株式会社サーモテック |
5.3%
|
| 9 | ヤマト科学株式会社 |
4.2%
|
| 10 | オーム電機株式会社 |
4.2%
|
項目別
使用用途
#金型加熱 #半導体装置 #化学反応 #成形機制御冷却能力 W
400 - 700 700 - 1,100 1,100 - 1,500 1,500 - 2,000温度設定範囲
-20 - -10 -10 - 0 0 - 30 30 - 80 80 - 90温度調節精度 ℃
0 - 0.1 0.1 - 0.2 0.2 - 0.5外部循環能力最大流量 L/min
5 - 20 20 - 50 50 - 100 100 - 200 200 - 300 300 - 500 500 - 900ヒータ kW
0 - 5 5 - 10 10 - 20 20 - 30 30 - 40 40 - 50水槽容量 L
0 - 5 15 - 30電源電圧 V
70 - 150 150 - 200質量 kg
50 - 10030 点の製品がみつかりました
30 点の製品
株式会社レイケン
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高性能ポンプの採用により、負荷側温度を常に均一に制御できます。昇温効率が高く、昇温時間が大幅に短縮できます。CVD装置、ロール・ジ...
株式会社レイケン
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株式会社レイケン
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タツモ株式会社
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NISON®1800は、熱リン酸による窒化膜エッチングに必要不可欠な装置として長年に渡り半導体業界で広く採用されてきました。その機能は、...
株式会社レイケン
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高性能ポンプの採用により、負荷側温度を常に均一に制御できます。昇温効率が高く、昇温時間が大幅に短縮できます。CVD装置、ロール・ジ...
株式会社柳生商会
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■特徴 ・高揚程ポンプ (最大流量40.7/44.6L/min・最大揚程13.6/19.1m) により循環先の抵抗が大きい場合でもスムーズな循環を実現します...
株式会社レイケン
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東京理化器械株式会社
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■インバーターによるコンパクトエコタイプ。約77%の省エネ効果 従来製品 (NCC-1120型) に比べ約77%の省エネ効果で、消費電力・CO2削減に...
株式会社レイケン
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高性能ポンプの採用により、負荷側温度を常に均一に制御できます。昇温効率が高く、昇温時間が大幅に短縮できます。CVD装置、ロール・ジ...
株式会社レイケン
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金型への媒体温度を高低間で瞬時に切り替えます。 ■金型急温急冷システム 特長 ・導光板、レンズなどの精密成型 ・厚肉製品、外装部品...
株式会社レイケン
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株式会社レイケン
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高性能ポンプの採用により、負荷側温度を常に均一に制御できます。昇温効率が高く、昇温時間が大幅に短縮できます。CVD装置、ロール・ジ...
温水循環装置とは、温水を効率的に供給する装置です。
低温に冷却する目的で使う装置は冷水循環装置、常温より高く加熱する目的で使う装置は温水循環装置と呼びます。温水循環装置は常温から＋200℃の高温液の循環まで幅広い温度域と流量を持つ様々な種類があるので、目的に応じて適切な機種を選ぶことが可能です。
また、温水循環装置は自動制御システムを備えています。センサーやタイマーを利用して、需要が少ない時間帯にはポンプの動作を抑制し、必要な時にのみポンプを起動させることもできます。
温水循環装置は主に化学実験や研究、産業プロセスなど、さまざまな用途で重要な役割を果たしています。
温水循環装置は、化学反応の温度制御に欠かせない装置です。例えば、反応物の加熱や冷却を必要とする反応において、適切な温度条件を維持することが重要です。
温水循環装置は、反応容器やジャケット付き反応器に温水を循環させることで、反応温度を正確に制御します。
温水循環装置は、蒸留や蒸気供給の際に補助的な役割を果たします。蒸留過程で冷却を行う際に、温水循環装置を使用して適切な温度条件を維持することが可能です。
水浴装置の温度制御にも広く用いられます。水浴装置は、試験管やフラスコなどの実験容器を水浴させ、一定の温度で反応や加熱を行うための装置です。
温水循環装置は水浴装置に温水を供給することで、温度を正確に制御し、実験の安定性と精度を高めます。
化学プロセスにおいても、温水循環装置は加熱や冷却に活用が可能です。例えば、反応槽やリアクター内の温度を制御するために温水循環装置を使用します。その他、特定の化学プロセスに必要な温度条件を提供するためにも利用されます。
これらの使用例からもわかるように、化学機器における温水循環装置は、正確な温度制御や冷却を実現することで、安全性や効率性を向上させるため、実験や産業プロセスにおいて重要な装置です。
温水循環装置は、ポンプ、加熱装置、配管、制御システムの4点構成です。正確な温度制御により、反応の安定性や再現性を高め、品質の向上に貢献することから、化学分野での研究や生産において、温水循環装置の重要性はますます高まっています。
温水循環装置では、温水供給ポンプが主要な役割を担います。このポンプは、温水をボイラーまたは加熱装置から取り込み、配管を通じて化学機器に供給します。温水供給ポンプは、適切な流量を維持しつつ、安定した温水供給を実現するために欠かせません。
ボイラーや加熱装置では、大量の水を一括して加熱し、一定の温度に保ちます。ボイラーは燃料を燃焼させて熱を発生させるか、電気を利用して加熱します。
循環装置では、配管網も必要です。配管を通じて温水が化学機器に供給され、反応容器やリアクター内の温度制御に使用されます。配管は耐腐食性や高温耐性が要求されるため、適切な素材を使用することが必須です。
温水循環装置には、効率的な制御システムも組み込まれています。温度センサーやプログラムされた制御装置を使用して、温水供給ポンプやボイラーの動作を適切なタイミングで制御します。これにより、化学実験や産業プロセスの要求に合わせて温水の供給を調整することが可能です。
温水循環装置は、1つの装置が複数の化学機器に対応できるというメリットがあります。例えば、複数の反応容器やリアクター、水浴装置などに温水を供給することが可能です。これにより、複数の実験を同時に行ったり、大規模な実験設備に対応する際に効率的な温度制御が実現できます。
また、近年の温水循環装置は、エネルギー効率の向上が進んでいることから省エネルギー機能が組み込まれており、必要な時に適切な温度を提供することで、エネルギー消費を最適化します。
