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洗浄装置 フォトマスク洗浄装置 TW-700-TW-700
洗浄装置 フォトマスク洗浄装置 TW-700-株式会社テクノビジョン

洗浄装置 フォトマスク洗浄装置 TW-700
株式会社テクノビジョン

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この製品について

■製品概要

フォトマスクのクリーン化は、製品歩留まり向上の必須条件。半導体製造工程で使用されるパターンをガラス等に形成し原版とするフォトマスクには、表面に微細なゴミ等が付着します。付着したゴミや汚れはパターン転写時に影響を及ぼし、歩留りを大きく左右するため、高度な洗浄技術が求められています。 テクノビジョンのフォトマスク洗浄装置は、スクラブ洗浄･リンス･乾燥を一台で行いフォトマスクに付着したゴミや汚れを洗浄するマスククリーナーです。弊社では多様なお客様からのご要望にお応えするため、スモールサイズからラージサイズまでの幅広いフォトマスクに対応した洗浄装置、TWE-200、TW-300、TW-700、TW-100をご提供しています。

■特長

・ワークの「スクラブ洗浄･リンス･乾燥」を一台の装置でスピーディーに実施。 ・スクラブ洗浄用特殊ブラシにてワークに傷を付けず、洗浄ムラなく精密洗浄可能。 ・縦型処理の為、ワークにストレスがかからない設計。 ・少量多品種、R&D用途の基板洗浄にも最適な仕様。 ・各サイズ専用ワークホルダーの用意とフリーサイズ対応ワークホルダーを用意。また、ワーク接触部分は､樹脂にて対応。

■用途

フォトマスク：半導体用、液晶用、有機EL用、カラーフィルター用、薄膜デバイス用、ICパッケージ用、PWB用、PCB用、FPC用その他、板状基板等洗浄可

■各オプション

・界面活性剤供給ユニット ・ホットエアーナイフ ・純水加熱ユニット

  • シリーズ

    洗浄装置 フォトマスク洗浄装置 TW-700

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洗浄装置 フォトマスク洗浄装置 TW-700 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) マスクサイズ 装置寸法 作業高さ 重量
洗浄装置 フォトマスク洗浄装置 TW-700-品番-TW-700

TW-700

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1,810mm (W) ×880mm (D) ×1,590mm (H)

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この商品の取り扱い会社情報

株式会社テクノビジョン

会社概要

株式会社テクノビジョンは、半導体製造装置の開発・製造と輸出輸入業を行う会社です。 1987年に埼玉県で設立されました。各種洗浄装置の開発・販売を中心に事業を展開し、海外メーカーからの受注や、台湾・中国・欧州で販売代理店...

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  • 本社所在地: 埼玉県

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