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ガスデポジション (GD) 装置 高周波誘導加熱10kw ノズル径φ0.8mm×1取扱企業
有限会社渕田ナノ技研カテゴリ
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成膜装置の製品109点中、注目ランキング上位6点
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商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | ナノ粒子作製部 高周波誘導加熱 (kw) | 膜形成部 ノズル径 (mm) | 膜形成部 ノズル本数 | 基材駆動 (mm) | 付属機能 | |
---|---|---|---|---|---|---|---|---|
![]() |
高周波誘導加熱10kw ノズル径φ0.8mm×1 80×80 |
要見積もり |
10 |
φ0.8 |
1 |
80×80 |
アーク加熱系付属 |
|
![]() |
高周波誘導加熱10kw ノズル径φ0.8mm×1 100×100 |
要見積もり |
10 |
φ0.8 |
1 |
100×100 |
2系統の蒸発源あり |
成膜装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#半導体製造 #光学部品製造 #太陽電池製造 #ディスプレイ製造 #電池材料開発 #センサ開発 #薄膜トランジスタ開発 #表面改質 #機能性材料研究 #MEMS製造 #医療機器製造 #材料評価到達圧力 Pa
0 - 0.01 0.01 - 1 1 - 10基板サイズ mm
25 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 650設置面積 m²
1 - 5 5 - 10 10 - 20所要電力 kVA
10 - 15 15 - 20 20 - 25 25 - 30 30 - 35真空槽 mm
500 - 800 800 - 1,000基板バイアス V
0 - 5,000 5,000 - 25,000