パワーデバイス向け蒸気2流体洗浄装置 ASTE (アステ)
HUGパワー株式会社

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この製品について

■半導体向け/ASTE (アステ) エッチング後のポリマ除去/ウェハ上の異物除去に有効

■高価なアミン系剥離剤がいらないアミン系剥離剤の代わりに蒸気を使うことでポリマとレジスト同時除去

■工程数の削減が可能・従来：ASHER (レジスト剥離) →有機溶剤でポリマ除去→RCA洗浄で異物除去
・蒸気の場合はレジスト/ポリマ/異物を同時に除去

■ランニングコストを大幅に削減薬液の購入/保管/廃棄処理/メンテナンスが不要となるため処理 (ランニング) コストを大幅に削減

型番
この商品には1種類の型番があります

シリーズ
パワーデバイス向け蒸気2流体洗浄装置 ASTE (アステ)

取扱企業
HUGパワー株式会社

カテゴリ

洗浄剤・装置

洗浄装置

半導体製造

半導体洗浄装置

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パワーデバイス向け蒸気2流体洗浄装置 ASTE (アステ) 品番1件

商品画像	品番	価格 (税抜)	フロントエンドモジュール (EFEM)	蒸気発生モジュール (Ti製SGM)	蒸気2流体プロセスモジュール (SPM)	超音速ノズル (幅8mm)	汽水分離	チャンバー数	ウエハロ径	カセット数	外形寸法 (SPM) ×2	外形寸法 (EFEM)	外形寸法 (SGM)	用力 (8”用) 電源	用力 (8”用) 純水	用力 (8”用) N2	用力 (8”用) CDA	用力 (8”用) 排気	用力 (8”用) 排水
	ASTE	要見積もり	ウエハのロード/アンロード	純水を加熱 (100~140℃) し蒸気を発生 (~50kg/h)	レジスト剥離、有機物除去等の洗浄室	蒸気＋純水の2流体を超音速で噴射	気体 (蒸気排気) と液体 (水排水) に分離	SPM 2チャンバ	150/200mm対応	2カセット	590mm (W) × 850mm (D) × 2,020mm (H)	2,000mm (W) × 1,200mm (D) × 2,020mm (H)	950mm (W) × 350mm (D) × 1,460mm (H)	3相、200VAC、175A	0.3~0.4MPa、5L/min	0.3~0.6MPa、200L/min (ベルヌーイ仕様)	0.55MPa、400L/min	8m3/min	5L/min