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フットプリント半減、生産性1.5倍のハイコストパフォーマンス洗浄装置 コンパクトウェットステーション CW-2000-CW-2000
フットプリント半減、生産性1.5倍のハイコストパフォーマンス洗浄装置 コンパクトウェットステーション CW-2000-株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ

フットプリント半減、生産性1.5倍のハイコストパフォーマンス洗浄装置 コンパクトウェットステーション CW-2000
株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ

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この製品について

特長

■オールインワンコンセプト

薬液供給ユニットおよび冷却ユニットを本体内部に搭載。当社従来装置との比較で約45％の省スペース化を実現しました。

■多様な処理ウェーハに対応

1台の装置で、50mmから200mmまで幅広いサイズに対応します。

■新乾燥ユニットをラインアップ

従来のDIS (Drain & IPA Substitution) 乾燥に加えて、IPAを使用しない環境に優しい温風乾燥方式 (HBD: Hot Blow Drying) を新たにラインアップ。お客さまの使用条件に応じて選択が可能です。

■フレキシブルな拡張性

お客さまの生産性と導入スペースに応じて、処理槽数を4・6・8槽と拡張可能です。

■生産性アップ

従来比1.5倍の毎時150枚の生産を実現。

■RCA洗浄に対応

半導体洗浄で従来から主流となっている、歩留まり向上に有効なRCA洗浄にも対応します。

  • シリーズ

    フットプリント半減、生産性1.5倍のハイコストパフォーマンス洗浄装置 コンパクトウェットステーション CW-2000

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フットプリント半減、生産性1.5倍のハイコストパフォーマンス洗浄装置 コンパクトウェットステーション CW-2000 品番1件

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フットプリント半減、生産性1.5倍のハイコストパフォーマンス洗浄装置 コンパクトウェットステーション CW-2000-品番-CW-2000

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この商品の取り扱い会社情報

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会社概要

私たち株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズは、大日本スクリーン製造株式会社（現、株式会社SCREENホールディングス）の半導体事業を全て承継し、半導体製造装置の専業メーカーとしてスタートしました。

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