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基板回転による優れた膜厚分布および再現性を実現 Epitaxial-EB蒸着装置-Epitaxial-EB蒸着装置
基板回転による優れた膜厚分布および再現性を実現 Epitaxial-EB蒸着装置-ジャパンクリエイト株式会社

基板回転による優れた膜厚分布および再現性を実現 Epitaxial-EB蒸着装置
ジャパンクリエイト株式会社

💻 電子・電気機器業界用 🧪 化学業界用

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■特徴

・エピタキシャル促進機構により単結晶成膜に最適 ・酸化促進ガス導入機構 ・材料酸化防止機構 ・最高900℃の高温プロセスが可能 ・基板回転による優れた膜厚分布および再現性を実現 ・ロードロック式による高真空プロセスに対応 ・最適な表面処理によるパーティクル低減

  • シリーズ

    基板回転による優れた膜厚分布および再現性を実現 Epitaxial-EB蒸着装置
  • 利用シーン

    電子・電気機器業界用 / 化学業界用

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基板回転による優れた膜厚分布および再現性を実現 Epitaxial-EB蒸着装置 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 基板サイズ 基板加熱温度 蒸着材料 真空排気 膜厚コントロール 制御操作 データロギング 基板搬送 オプション
基板回転による優れた膜厚分布および再現性を実現 Epitaxial-EB蒸着装置-品番-Epitaxial-EB蒸着装置

Epitaxial-EB蒸着装置

要見積もり

最大φ12インチ

700℃ (基板表面)

金属または酸化物

CP+DP

水晶式膜厚センサ

制御:PLC
操作:タッチパネルまたはPC

外部メモリまたはPC

真空搬送ロボット

基板加熱900℃ (基板表面)、基板冷却、基板バイアス、基板回転、抵抗加熱蒸発源 (最大6台) 、反応ガス供給ユニット など

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この商品の取り扱い会社情報

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会社概要

ジャパンクリエイト株式会社は、ウエハ自動洗浄装置、エッチング装置、スピン洗浄装置、プラズマCVD装置、スパッタリング装置、蒸着装置の開発及び製造を主な事業内容とする企業です。
1963年に洗浄装置の開発及び製造を...

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  • 本社所在地: 埼玉県
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