全てのカテゴリ

閲覧履歴

原子層堆積装置 ALDER-1000-株式会社オプトラン

株式会社オプトランの対応状況

返答率

100.0%

返答時間

145.6時間

全型番で同じ値の指標

真空チャンバ

W900mm × D900mm ×H1,150mm

成膜ボックス

W374mm × D700mm ×H800mm

回転式基板ラック

φ350ホルダ × 40段、30rpm

プラズマ源

ICP (誘導結合プラズマ)

前駆体供給源

前駆体容器、ALDバルブ、前駆体 (TMA、3DMAS、TiCI4ほか)

排気システム

ドライポンプ

到達圧力

真空チャンバ:7Pa未満

排気時間

真空チャンバ:30分 (大気から10Paまで)

成膜温度

最大130℃

この製品について

ALDER-1000は従来の成膜手法では成しえなかった光学特性を実現します。立体形状への成膜が可能で、カメラレンズへのAR膜はゴースト・フレアの消えた鮮明な映像を作り出します。

■特長

・可視光領域で0,1%を下回る極低反射率コーティング ・急峻な立体構造表面へのコンフォーマル成膜 ・大曲率レンズ両面への広入射角ARコーティング ・低温プラズマによるプラスチックレンズへの成膜 ・φ350ウェハ×40枚の同時成膜による高生産性 ・ゴースト・フレアが消えたリアルかつ鮮明な画像を実現

  • 型番

    ALDER-1000

この製品を共有する


30人以上が見ています


返答率: 100.0%


無料
見積もり費用は無料です、お気軽にご利用ください

電話番号不要
不必要に電話がかかってくる心配はありません

ALD装置注目ランキング (対応の早い企業)

返答時間が24時間以内の企業の中での注目ランキング

電話番号不要

何社からも電話が来る心配はありません

一括見積もり

複数社に同じ内容の記入は不要です

返答率96%

96%以上の方が返答を受け取っています


原子層堆積装置 ALDER-1000 ALDER-1000の性能表

商品画像 価格 (税抜) 真空チャンバ 成膜ボックス 回転式基板ラック プラズマ源 前駆体供給源 排気システム 到達圧力 排気時間 成膜温度
原子層堆積装置 ALDER-1000-品番-ALDER-1000 要見積もり W900mm × D900mm ×H1,150mm W374mm × D700mm ×H800mm φ350ホルダ × 40段、30rpm ICP (誘導結合プラズマ) 前駆体容器、ALDバルブ、前駆体 (TMA、3DMAS、TiCI4ほか) ドライポンプ 真空チャンバ:7Pa未満 真空チャンバ:30分 (大気から10Paまで) 最大130℃

全1種類の型番を一覧でみる

類似製品

ALD装置の中でこの商品と同じ値をもつ製品
温度管理が低温ALDの製品

フィルターから探す

ALD装置をフィルターから探すことができます

使用用途

#コンフォーマルコート #パッシベーション層 #バリア層 #凹凸覆膜 #色度制御 #絶縁層 #低温処理 #硫化抑制

機能

単層ALD 複層ALD 高速ALD

温度管理

高温ALD 低温ALD

処理基板 ¢mm

50 - 150 150 - 250 250 - 350 350 - 700 700 - 1,400

スパッタ方向

アップ ダウン

スパッタ電源

0 - 1 1 - 5 5 - 20

この商品を見た方はこちらもチェックしています

ALD装置をもっと見る

この商品の取り扱い会社情報

返答率

100.0%


返答時間

145.6時間

会社概要

株式会社オプトランは1999年に設立された、真空成膜装置などの製造・輸出入をしている会社です。 複雑な集積回路である大規模集積回路の製造プロセスで、配線膜・絶縁膜を形成する機械である成膜装置、イオン化をするための装置で...

もっと見る

  • 本社所在地: 東京都

この商品の該当カテゴリ

Copyright © 2025 Metoree