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真空チャンバ
W900mm × D900mm ×H1,150mm
成膜ボックス
W374mm × D700mm ×H800mm
回転式基板ラック
φ350ホルダ × 40段、30rpm
プラズマ源
ICP (誘導結合プラズマ)
前駆体供給源
前駆体容器、ALDバルブ、前駆体 (TMA、3DMAS、TiCI4ほか)
排気システム
ドライポンプ
到達圧力
真空チャンバ:7Pa未満
排気時間
真空チャンバ:30分 (大気から10Paまで)
成膜温度
最大130℃
型番
ALDER-1000シリーズ
原子層堆積装置 ALDER-1000取扱企業
株式会社オプトランカテゴリ
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商品画像 | 価格 (税抜) | 真空チャンバ | 成膜ボックス | 回転式基板ラック | プラズマ源 | 前駆体供給源 | 排気システム | 到達圧力 | 排気時間 | 成膜温度 |
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要見積もり | W900mm × D900mm ×H1,150mm | W374mm × D700mm ×H800mm | φ350ホルダ × 40段、30rpm | ICP (誘導結合プラズマ) | 前駆体容器、ALDバルブ、前駆体 (TMA、3DMAS、TiCI4ほか) | ドライポンプ | 真空チャンバ:7Pa未満 | 真空チャンバ:30分 (大気から10Paまで) | 最大130℃ |
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