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基板回転による優れた膜厚分布および再現性を実現 Epitaxial-EB蒸着装置-ジャパンクリエイト株式会社
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返答率

100.0%

返答時間

129.3時間

全型番で同じ値の指標

基板サイズ

最大φ12インチ

基板加熱温度

700℃ (基板表面)

蒸着材料

金属または酸化物

真空排気

CP+DP

膜厚コントロール

水晶式膜厚センサ

制御操作

制御:PLC 操作:タッチパネルまたはPC

データロギング

外部メモリまたはPC

基板搬送

真空搬送ロボット

この製品について

■特徴

・エピタキシャル促進機構により単結晶成膜に最適 ・酸化促進ガス導入機構 ・材料酸化防止機構 ・最高900℃の高温プロセスが可能 ・基板回転による優れた膜厚分布および再現性を実現 ・ロードロック式による高真空プロセスに対応 ・最適な表面処理によるパーティクル低減

  • 型番

    Epitaxial-EB蒸着装置

企業レビュー 5.0

Metoree経由で見積もり

2024年12月12日にレビュー済み

顧客対応への満足度

回答が速やかに有りました。しかし、残念ながら同社では対応が困難な案件でした。

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基板回転による優れた膜厚分布および再現性を実現 Epitaxial-EB蒸着装置 Epitaxial-EB蒸着装置の性能表

商品画像 価格 (税抜) 基板サイズ 基板加熱温度 蒸着材料 真空排気 膜厚コントロール 制御操作 データロギング 基板搬送 オプション
基板回転による優れた膜厚分布および再現性を実現 Epitaxial-EB蒸着装置-品番-Epitaxial-EB蒸着装置 要見積もり 最大φ12インチ 700℃ (基板表面) 金属または酸化物 CP+DP 水晶式膜厚センサ 制御:PLC
操作:タッチパネルまたはPC
外部メモリまたはPC 真空搬送ロボット

基板加熱900℃ (基板表面)、基板冷却、基板バイアス、基板回転、抵抗加熱蒸発源 (最大6台) 、反応ガス供給ユニット など


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蒸着装置をフィルターから探すことができます

使用用途

#研究開発 #金属膜 #有機エレクトロニクス #電子顕微鏡試料 #多層膜 #電子部品半導体 #超高真空 #MBE #保護膜

排気時間 分

10 - 15 15 - 20 20 - 25

排気系主ポンプ

クライオポンプ 油拡散ポンプ ターボ分子ポンプ

操作方法

全自動 手動 自動

基板サイズ mm

50 - 100 100 - 200 200 - 300 300 - 1,000 1,000 - 3,000

チャンバーサイズ mm

150 - 200 200 - 250 250 - 300 300 - 350 350 - 400

蒸発方式

抵抗加熱 電子銃 高周波誘導加熱

基板加熱温度 ℃

100 - 500 500 - 800 800 - 1,000

膜厚分布 %

1 - 5 5 - 15

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この商品の取り扱い会社情報

返答率

100.0%


返答時間

129.3時間


企業レビュー

5.0

会社概要

ジャパンクリエイト株式会社は、ウエハ自動洗浄装置、エッチング装置、スピン洗浄装置、プラズマCVD装置、スパッタリング装置、蒸着装置の開発及び製造を主な事業内容とする企業です。
1963年に洗浄装置の開発及び製造を...

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  • 本社所在地: 埼玉県

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