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基板サイズ
最大φ12インチ
基板加熱温度
700℃ (基板表面)
蒸着材料
金属または酸化物
真空排気
CP+DP
膜厚コントロール
水晶式膜厚センサ
制御操作
制御:PLC 操作:タッチパネルまたはPC
データロギング
外部メモリまたはPC
基板搬送
真空搬送ロボット
型番
Epitaxial-EB蒸着装置取扱企業
ジャパンクリエイト株式会社カテゴリ
Metoree経由で見積もり
2024年12月12日にレビュー済み
顧客対応への満足度
回答が速やかに有りました。しかし、残念ながら同社では対応が困難な案件でした。
初回対応までの時間への満足度
4.22時間
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蒸着装置の製品93点中、注目ランキング上位6点
電話番号不要
何社からも電話が来る心配はありません
一括見積もり
複数社に同じ内容の記入は不要です
返答率96%
96%以上の方が返答を受け取っています
返答時間が24時間以内の企業の中での注目ランキング
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返答率96%
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商品画像 | 価格 (税抜) | 基板サイズ | 基板加熱温度 | 蒸着材料 | 真空排気 | 膜厚コントロール | 制御操作 | データロギング | 基板搬送 | オプション |
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要見積もり | 最大φ12インチ | 700℃ (基板表面) | 金属または酸化物 | CP+DP | 水晶式膜厚センサ |
制御:PLC 操作:タッチパネルまたはPC |
外部メモリまたはPC | 真空搬送ロボット |
基板加熱900℃ (基板表面)、基板冷却、基板バイアス、基板回転、抵抗加熱蒸発源 (最大6台) 、反応ガス供給ユニット など |
蒸着装置の中でこの商品と同じ値をもつ製品
使用用途が超高真空の製品
蒸着装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#研究開発 #金属膜 #有機エレクトロニクス #電子顕微鏡試料 #多層膜 #電子部品半導体 #超高真空 #MBE #保護膜排気時間 分
10 - 15 15 - 20 20 - 25排気系主ポンプ
クライオポンプ 油拡散ポンプ ターボ分子ポンプ操作方法
全自動 手動 自動基板サイズ mm
50 - 100 100 - 200 200 - 300 300 - 1,000 1,000 - 3,000チャンバーサイズ mm
150 - 200 200 - 250 250 - 300 300 - 350 350 - 400蒸発方式
抵抗加熱 電子銃 高周波誘導加熱基板加熱温度 ℃
100 - 500 500 - 800 800 - 1,000膜厚分布 %
1 - 5 5 - 15