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洗浄装置 フォトマスク洗浄装置 TWE-200-株式会社テクノビジョン

全型番で同じ値の指標

マスクサイズ

300mm×300mmまで

装置寸法

980mm (W) ×720mm (D) ×1,760mm (H)

重量

250Kg

この製品について

■製品概要

フォトマスクのクリーン化は、製品歩留まり向上の必須条件。半導体製造工程で使用されるパターンをガラス等に形成し原版とするフォトマスクには、表面に微細なゴミ等が付着します。付着したゴミや汚れはパターン転写時に影響を及ぼし、歩留りを大きく左右するため、高度な洗浄技術が求められています。 テクノビジョンのフォトマスク洗浄装置は、スクラブ洗浄・リンス・乾燥を一台で行いフォトマスクに付着したゴミや汚れを洗浄するマスククリーナーです。弊社では多様なお客様からのご要望にお応えするため、スモールサイズからラージサイズまでの幅広いフォトマスクに対応した洗浄装置、TWE-200、TW-300、TW-700、TW-100をご提供しています。

■特長

・ワークの「スクラブ洗浄・リンス・乾燥」を一台の装置でスピーディーに実施。 ・スクラブ洗浄用特殊ブラシにてワークに傷を付けず、洗浄ムラなく精密洗浄可能。 ・縦型処理の為、ワークにストレスがかからない設計。 ・少量多品種、R&D用途の基板洗浄にも最適な仕様。 ・各サイズ専用ワークホルダーの用意とフリーサイズ対応ワークホルダーを用意。また、ワーク接触部分は、樹脂にて対応。

■用途

フォトマスク:半導体用、液晶用、有機EL用、カラーフィルター用、薄膜デバイス用、ICパッケージ用、PWB用、PCB用、FPC用その他、板状基板等洗浄可

■各オプション

・界面活性剤供給ユニット ・HEPA/ULPAユニット ・イオナイザー ・ホットエアーナイフ ・純水加熱ユニット

  • 型番

    TWE-200

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洗浄装置 フォトマスク洗浄装置 TWE-200 TWE-200の性能表

商品画像 価格 (税抜) マスクサイズ 装置寸法 重量
洗浄装置 フォトマスク洗浄装置 TWE-200-品番-TWE-200 要見積もり 300mm×300mmまで 980mm (W) ×720mm (D) ×1,760mm (H) 250Kg

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使用用途

#除菌殺菌 #乾燥 #精密洗浄 #異物除去 #脱脂 #油分除去 #容器洗浄 #タンク洗浄

洗浄方式

超音波洗浄型 スプレー洗浄型 浸漬洗浄型 真空洗浄型 アーチ旋回洗浄 スチーム洗浄 ブラシ洗浄 温水洗浄 乾式洗浄 高圧洗浄 循環洗浄 洗剤洗浄 超音波洗浄 噴射洗浄 泡洗浄 薬液洗浄

洗浄媒体

水系洗浄型 溶剤洗浄型

搬送方式

バッチ型 インライン型

乾燥方式

温風乾燥型 真空乾燥型

消費電力 kW

0 - 1 1 - 10 10 - 50 50 - 100 100 - 500

電源電圧 V

0 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 260

タンク容量

0 - 10 10 - 50 50 - 100 100 - 200 200 - 500 500 - 1,000 1,000 - 1,500 1,500 - 4,500

洗浄液

アルカリ性界面活性剤 ゲルピカラボ スチーム パインアルファ プロピレングリコール 市水 純水 水石鹸液 精製水 専用アルカリ洗剤 専用酵素洗剤 中性洗剤 溶剤

対象ワーク

ウェハー オリコン カブ ガラス瓶 クレート ゴボウ コンテナ プラスチックトレー マスク メタルマスク 基板 金型 人参 大根

駆動方式

ダブルモーター エア駆動 シングルモーター ギヤ駆動 軸流タービン コンベア駆動 ペルトン型タービン トリプルウォッシュ スパイラル搬送

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

株式会社テクノビジョンは、半導体製造装置の開発・製造と輸出輸入業を行う会社です。 1987年に埼玉県で設立されました。各種洗浄装置の開発・販売を中心に事業を展開し、海外メーカーからの受注や、台湾・中国・欧州で販売代理店...

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  • 本社所在地: 埼玉県

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