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立体物に成膜可能 立体物対応実験用プラズマCVD装置-株式会社DINOVAC

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供給ガス圧力

0.1MPa~0.2MPa

到達真空度

1Pa以下

ガス導入系

Ar、O2、CVD用ガス

接地

A種アース

制御 / 操作

PLC制御 / PC操作

真空チャンバー 材質

ステンレス製

真空ポンプ

ロータリーポンプ+メカニカルブースターポンプ

ランプ加熱

最高設定温度500℃

高周波出力

最大1kW

電気容量

三相AC200V 50A

整合方式

自動整合方式

排気圧コントロール

手動 (オプションで自動可)

この製品について

■用途・特徴

・立体物に成膜可能な実験用プラズマCVD装置 ・対応可能膜種:DLC、アモルファスSiC等 ・基材加熱機構付き (最高設定温度:500℃) ・PC操作 (シーケンサー制御) で、全自動、データロギング 当社では実験装置から生産装置まで、お客様のご要望、ご予算に合わせて装置を設計、製造いたします。「こういう形の物に膜をつけられる装置」、「こういう事が出来る装置」など、ご要望をお聞かせいただき、最適な装置をご提案させていただきます。 一から設計しますので、お手持ちのポンプをご支給頂いたり、このメーカのバルブを使って欲しいなどのご要望にも柔軟に対応いたします。

  • 型番

    立体物対応実験用プラズマCVD装置

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立体物に成膜可能 立体物対応実験用プラズマCVD装置 立体物対応実験用プラズマCVD装置の性能表

商品画像 価格 (税抜) 供給ガス圧力 到達真空度 ガス導入系 接地 制御 / 操作 真空チャンバー 材質 真空ポンプ ランプ加熱 高周波出力 電気容量 整合方式 排気圧コントロール
立体物に成膜可能 立体物対応実験用プラズマCVD装置-品番-立体物対応実験用プラズマCVD装置 要見積もり 0.1MPa~0.2MPa 1Pa以下 Ar、O2、CVD用ガス A種アース PLC制御 / PC操作 ステンレス製 ロータリーポンプ+メカニカルブースターポンプ 最高設定温度500℃ 最大1kW 三相AC200V 50A 自動整合方式 手動 (オプションで自動可)

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使用用途

#コンフォーマルコート #パッシベーション層 #バリア層 #凹凸覆膜 #色度制御 #絶縁層 #低温処理 #硫化抑制

処理基板 ¢mm

50 - 150 150 - 250 250 - 350 350 - 700 700 - 1,400

スパッタ方向

アップ ダウン

スパッタ電源

0 - 1 1 - 5 5 - 20

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この商品の取り扱い会社情報

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  • 本社所在地: 埼玉県

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