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返答時間
25.1時間
常用加熱温度
1,200℃
最高加熱温度
1,400℃max
ルツボ容量
10cc
ルツボ材質
PBN (Pure Boron Nitride) 、シェイパル
熱電対
W5%／WRe26%
ヒーター
Ta (Tantalum)
熱シールド
Ta多層シールド方法
取付フランジ
ICF-70
シャッター機構
オプション (接続フランジがICF-114となります)
型番
KMD-Cellシリーズ
金属蒸着セル KMD-Cell取扱企業
北野精機株式会社カテゴリ
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蒸着装置の製品135点中、注目ランキング上位6点
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| 商品画像 | 価格 (税抜) | 常用加熱温度 | 最高加熱温度 | ルツボ容量 | ルツボ材質 | 熱電対 | ヒーター | 熱シールド | 取付フランジ | シャッター機構 |
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¥1,200,000 | 1,200℃ | 1,400℃max | 10cc | PBN (Pure Boron Nitride) 、シェイパル | W5%／WRe26% | Ta (Tantalum) | Ta多層シールド方法 | ICF-70 | オプション (接続フランジがICF-114となります) |
蒸着装置の中でこの商品と同じ値をもつ製品
使用用途が金属膜の製品
蒸着装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#研究開発 #金属膜 #有機エレクトロニクス #電子顕微鏡試料 #多層膜 #電子部品半導体 #超高真空 #MBE #保護膜蒸着方式
抵抗加熱蒸着型 電子ビーム蒸着型成膜環境
真空蒸着型 高真空蒸着型 イナートガス雰囲気型蒸着材料供給方式
単発源型 多元源型特徴機能
自動制御型 高速成膜型 高精度厚さ制御型 クリーン対応型排気時間 分
10 - 15 15 - 20 20 - 25排気系主ポンプ
クライオポンプ 油拡散ポンプ ターボ分子ポンプ操作方法
全自動 手動 自動基板サイズ mm
50 - 100 100 - 200 200 - 300 300 - 1,000 1,000 - 3,000チャンバーサイズ mm
150 - 200 200 - 250 250 - 300 300 - 350 350 - 400蒸発方式
抵抗加熱 電子銃 高周波誘導加熱基板加熱温度 ℃
100 - 500 500 - 800 800 - 1,000膜厚分布 %
1 - 5 5 - 15返答率
100.0%
返答時間
25.1時間
