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マルチPVD成膜装 <DASHシリーズ>-ナノテック株式会社

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基板ホルダー

自公転式(製品形状に応じて特注製作可能)

搭載放電システム

・DLCイオン源(イオン化蒸着源)、HCDガン、スパッタリング・アーク、EBガン、イオン注入源

到達圧力

6.7E-4Pa以下

排気速度

6.7E-3Pa以下まで30分以内

基板加熱機構

オプション(シースヒーター、ランプヒーター等)

基板バイアス

MAX3,000V500mA

装置制御

レシピ画面設定による完全自動運転※一部複合型は除く

排気系

ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ

冷却水

3kgf/cm220L~40L/min

圧縮空気

6kgf/cm2以上

この製品について

低摩擦係数で高硬度を持つダイヤモンド・ライク・カーボン (DLC) 膜の生成をベースに各種蒸発源を併用することによりDLC膜の密着力の向上、厚膜化、複合膜化などの研究開発を目的に開発された装置です。また、アーク源やHCDガンを単独で使用すればチタンやクロム系の薄膜 / 合金膜のコーティングも、さらにスパッタリングやEBガンを使用すれば酸化膜のコーティングも可能となります。

  • 型番

    DASH-1000

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マルチPVD成膜装 <DASHシリーズ> DASH-1000の性能表

商品画像 価格 (税抜) 有効エリア(mm) 基板ホルダー 搭載放電システム 到達圧力 排気速度 基板加熱機構 基板バイアス 装置制御 排気系 所要電力 設置面積(M) 冷却水 圧縮空気
マルチPVD成膜装 <DASHシリーズ>-品番-DASH-1000 要見積もり φ1000×900H φ600×500L 自公転式(製品形状に応じて特注製作可能) ・DLCイオン源(イオン化蒸着源)、HCDガン、スパッタリング・アーク、EBガン、イオン注入源 6.7E-4Pa以下 6.7E-3Pa以下まで30分以内 オプション(シースヒーター、ランプヒーター等) MAX3,000V500mA レシピ画面設定による完全自動運転※一部複合型は除く ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ 3φ200V30kVA~ 4.0W×4.0D×2.5H 3kgf/cm220L~40L/min 6kgf/cm2以上

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処理基板 ¢mm

50 - 150 150 - 250 250 - 350 350 - 700 700 - 1,400

スパッタ方向

アップ ダウン

スパッタ電源

0 - 1 1 - 5 5 - 20

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この商品の取り扱い会社情報

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会社概要

ナノテック株式会社は、真空を利用した金属及びセラミック表面改質装置の製造販売などを行う企業です。 真空利用だけではなく、プラズマ利用による金属加工装置の販売を行っています。また、材料の特性を評価する試験装置の輸入や...

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  • 本社所在地: 千葉県

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