全てのカテゴリ
閲覧履歴
返答率
100.0%
返答時間
15.3時間
返信の比較的早い企業
基板ホルダー
自公転式(製品形状に応じて特注製作可能)
搭載放電システム
・DLCイオン源(イオン化蒸着源)、HCDガン、スパッタリング・アーク、EBガン、イオン注入源
到達圧力
6.7E-4Pa以下
排気速度
6.7E-3Pa以下まで30分以内
基板加熱機構
オプション(シースヒーター、ランプヒーター等)
基板バイアス
MAX3,000V500mA
装置制御
レシピ画面設定による完全自動運転※一部複合型は除く
排気系
ターボ分子ポンプ＋ロータリーポンプ
冷却水
3kgf/cm220L~40L/min
圧縮空気
6kgf/cm2以上
型番
DASH-1000シリーズ
マルチPVD成膜装 ＜DASHシリーズ＞取扱企業
ナノテック株式会社カテゴリ
もっと見る
ALD装置の製品54点中、注目ランキング上位6点
電話番号不要
何社からも電話が来る心配はありません
一括見積もり
複数社に同じ内容の記入は不要です
返答率96%
96%以上の方が返答を受け取っています
返答時間が24時間以内の企業の中での注目ランキング
電話番号不要
何社からも電話が来る心配はありません
一括見積もり
複数社に同じ内容の記入は不要です
返答率96%
96%以上の方が返答を受け取っています
| 商品画像 | 価格 (税抜) | ｖ | 有効エリア(mm) | 基板ホルダー | 搭載放電システム | 到達圧力 | 排気速度 | 基板加熱機構 | 基板バイアス | 装置制御 | 排気系 | 所要電力 | 設置面積(Ｍ) | 冷却水 | 圧縮空気 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|
要見積もり | φ1000×900H | φ600×500L | 自公転式(製品形状に応じて特注製作可能) | ・DLCイオン源(イオン化蒸着源)、HCDガン、スパッタリング・アーク、EBガン、イオン注入源 | 6.7E-4Pa以下 | 6.7E-3Pa以下まで30分以内 | オプション(シースヒーター、ランプヒーター等) | MAX3,000V500mA | レシピ画面設定による完全自動運転※一部複合型は除く | ターボ分子ポンプ＋ロータリーポンプ | 3φ200V30kVA~ | 4.0W×4.0D×2.5H | 3kgf/cm220L~40L/min | 6kgf/cm2以上 |
