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真空槽(mm)
基板ホルダー
自公転式(製品形状に応じて特注製作可能)
搭載放電システム
DLCイオン源(イオン化蒸着源)
到達圧力
6.7E-4Pa以下
排気速度
6.7E-3Pa以下まで30分以内
基板加熱機構
オプション(シースヒーター、ランプヒーター等)
基板バイアス
MAX3,000V500mA
装置制御
レシピ画面設定による完全自動運転
排気系
ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ
冷却水
3kgf/cm220~40L/min
圧縮空気
6kgf/cm2以上
型番
NANOCOAT-500取扱企業
ナノテック株式会社カテゴリ
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ALD装置の製品54点中、注目ランキング上位6点
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商品画像 | 価格 (税抜) | 真空槽(mm) | 有効エリア(mm) | 基板ホルダー | 搭載放電システム | 到達圧力 | 排気速度 | 基板加熱機構 | 基板バイアス | 装置制御 | 排気系 | 所要電力 | 設置面積(M) | 冷却水 | 圧縮空気 |
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要見積もり | 500W×500W×600H | φ200×200L | 自公転式(製品形状に応じて特注製作可能) | DLCイオン源(イオン化蒸着源) | 6.7E-4Pa以下 | 6.7E-3Pa以下まで30分以内 | オプション(シースヒーター、ランプヒーター等) | MAX3,000V500mA | レシピ画面設定による完全自動運転 | ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ | 3φ200V10kVA | 2.5W×3.0D×2.5H | 3kgf/cm220~40L/min | 6kgf/cm2以上 |