ダイヤモンドの性質に近い高硬度  (マイクロビッカース硬度2,000～4, 000)  、低摩擦係数  (μ＝0.2以下)  、表面平滑性及び耐溶着性・離型性に優れたダイヤモンド・ライク・カーボン成膜装置のスタンダードモデル。

原理・構造
本装置は真空中において特殊なイオン源によりC6H6  (ベンゼン)  をプラズマ中で分解し、ダイヤモンドライクカーボン膜を生成させます。マルチイオン源によるプラズマエリアの制御と基板回転機構により、複雑形状物へも均一で密着力の強いコーティングが可能です。

型番
NANOCOAT-500

シリーズ
DLC成膜装置＜NANOCOATシリーズ＞

取扱企業
ナノテック株式会社

カテゴリ

半導体製造

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DLC成膜装置＜NANOCOATシリーズ＞ NANOCOAT-500の性能表

商品画像	価格 (税抜)	真空槽(mm)	有効エリア(mm)	基板ホルダー	搭載放電システム	到達圧力	排気速度	基板加熱機構	基板バイアス	装置制御	排気系	所要電力	設置面積(Ｍ)	冷却水	圧縮空気
	要見積もり	500W×500W×600H	φ200×200L	自公転式(製品形状に応じて特注製作可能)	DLCイオン源(イオン化蒸着源)	6.7E-4Pa以下	6.7E-3Pa以下まで30分以内	オプション(シースヒーター、ランプヒーター等)	MAX3,000V500mA	レシピ画面設定による完全自動運転	ターボ分子ポンプ＋ロータリーポンプ	3φ200V10kVA	2.5W×3.0D×2.5H	3kgf/cm220~40L/min	6kgf/cm2以上