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34 点の製品
株式会社昭和真空
最新の閲覧: 7時間前
■周波数調整装置のグローバルスタンダード 本装置は水晶デバイスの周波数調整を行う装置です。省スペース、高精度、高生産性を実現した...
株式会社昭和真空
最新の閲覧: 35分前
■成膜中の基板温度をリアルタイムに測定 ワイヤレス温度モニターは子機と親機で構成され、子機で測定した温度データを親機で受信しPCに...
株式会社昭和真空
最新の閲覧: 18時間前
バッチ間成膜再現性を追求した高性能モデル ■用途・応用例 光学多層膜フィルター (IRカットフィルター,バンドパスフィルターなど) 、各...
株式会社昭和真空
最新の閲覧: 4時間前
バッチ間成膜再現性を追求した高性能モデル ■用途・応用例 光学多層膜フィルター (IRカットフィルター,バンドパスフィルターなど) 、各...
株式会社昭和真空
最新の閲覧: 4時間前
■表面硬化膜形成用/少量生産機・実験機に最適 アーク放電型カソードを搭載したイオンプレーティング装置です。TiN、TiAlN硬化膜の成膜...
株式会社昭和真空
最新の閲覧: 2時間前
■小ロット・短いサイクルタイムで回せるスパッタリング装置 本装置は大型の製品にスパッタ・重合成膜が可能にもかかわらずハイサイクル...
株式会社昭和真空
最新の閲覧: 4時間前
■地上で宇宙の環境を再現 宇宙航空研究開発機構 (JAXA) 、名古屋大学をはじめ、企業・大学等研究開発機関に宇宙用途の真空装置を納入し...
株式会社昭和真空
最新の閲覧: 15時間前
■複雑な形状の基板への成膜に最適 ALD (AtomicLayerDeposition) 法は従来のCVD,PVDに比べ「ピンホールフリー」、「段差被覆性」、「精密...
株式会社昭和真空
最新の閲覧: 14時間前
■生産量UPを追及して1台で2台分の生産性を実現 従来のSapio1700から「排気工程の短縮」、「成膜工程の短縮」、「ベント工程の短縮」、「...
株式会社昭和真空
最新の閲覧: 8時間前
■金属蒸着のスタンダードモデル φ4インチ及びφ6インチウエハに対して電極膜及び酸化膜の成膜が可能です。蒸着物のウエハへの入射角が垂...
株式会社昭和真空
最新の閲覧: 20時間前
■Au/Snの2元同時蒸着が可能な蒸着装置 2元同時蒸着によりAu/Snの組成比管理及び膜厚管理が可能です。また、基板冷却機構及び間欠成膜機...
株式会社昭和真空
最新の閲覧: 9時間前
■耐腐食性の高いY₂O₃厚膜を成膜し、シールド膜の形成が可能 耐プラズマ膜 (Y₂O₃膜) の厚膜成膜が可能です。イオンアシスト蒸着 (IAD:Io...
株式会社昭和真空
最新の閲覧: 21時間前
■二種類の膜を両面に成膜可能なスパッタリング装置 本装置は水晶振動子のベース電極成膜を目的として開発したロードロック式スパッタリ...
株式会社昭和真空
最新の閲覧: 3時間前
■二種類の膜を両面に成膜可能なスパッタリング装置 本装置は水晶振動子のベース電極成膜を目的として開発したロードロック式通過型スパ...
株式会社昭和真空
最新の閲覧: 16時間前
■イオンビームによる基材の平坦化・平滑化 φ4インチもしくはφ6インチウエハに収束させたイオンビームを照射することで、基材 (ウエハ及...
株式会社昭和真空
最新の閲覧: 3時間前
■世界最高レベルのタクトタイムを実現 本装置は水晶デバイスの周波数調整を行う装置です。処理室と取出室を別にした3室インライン式の採...
株式会社昭和真空
最新の閲覧: 14時間前
インラインで水晶振動子の熱処理が可能な高真空アニール装置 ■用途・応用例 水晶振動子などの加工時に生ずる内部応力の歪みの除去。SMD...
株式会社昭和真空
最新の閲覧: 17時間前
■安定かつ高精度な光学膜厚制御を実現 本システムは、真空蒸着装置との組み合わせにより、光学膜厚を高精度で制御します。更に、条件設...
株式会社昭和真空
最新の閲覧: 1時間前
■加飾膜などに適したスタンダードモデル 各種金属膜の成膜が可能です。基板台車を2台付属しており、成膜中に基板交換、蒸着材料交換が可...
株式会社昭和真空
最新の閲覧: 20時間前
■大型基板量産用スパッタリング装置 本装置は大型基板へ金属膜、保護膜、透明導電膜等を成膜するインライン式スパッタリング装置です。 ...
株式会社昭和真空
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■枚葉式RIE装置スタンダードモデル RIE室3室を搭載した枚葉式RIE (反応性イオンエッチング) 装置です。カセット室を付属しており、カセ...
株式会社昭和真空
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バッチ間成膜再現性を追求した高性能モデル ■用途・応用例 光学多層膜フィルター (IRカットフィルター,バンドパスフィルターなど) 、各...
株式会社昭和真空
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■金属薄膜用蒸着装置のコンパクトモデル 抵抗加熱式蒸発源もしくは電子ビーム蒸発源による金属材料の成膜が可能です。研究開発・小ロッ...
株式会社昭和真空
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■二種類の膜を片面ずつ成膜可能なスパッタリング装置 基板反転機構を利用し両面成膜機構を採用した小型カルーセル式スパッタリング装置...
株式会社昭和真空
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生産の効率化/省スペース ■用途・応用例 水晶振動子などの加工時に生ずる内部応力の歪みの除去。電極膜の安定化 ■特長 ・本装置は、...
株式会社昭和真空
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■安定かつ高精度な光学膜厚制御を実現 本システムは、真空蒸着装置との組み合わせにより、光学膜厚を高精度で制御します。更に、条件設...
株式会社昭和真空
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■高精度な膜厚監視、レート制御が可能 本システムは、当社が長年培ってきた水晶デバイス製造装置の技術を生かし、ネットワークアナライ...
株式会社昭和真空
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■バッチ式RIE装置スタンダードモデル 処理能力の大きなバッチ式RIE (反応性イオンエッチング) 装置となっております。φ4インチウエハは2...
株式会社昭和真空
枚葉式の大型スパッタリング装置 ■用途・応用例 各種ウエハ電子部品へのメタル成膜 ■特長 ・φ8インチウエハ対応が可能です。 ・スパッ...
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郵便番号 | 〒252-0244 |
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本社住所 | 神奈川県相模原市中央区田名3062-10 |
創業年 | 1953年 |
従業員数 | 197人 |
上場区分 | 東証スタンダード |
証券コード | 6384 |
法人番号 | 9021001012619 |
会社区分 | メーカー |
リンク | 株式会社昭和真空 ホームページ |
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