会社概要
レーザーテック株式会社は神奈川県横浜市に本社を置き、半導体関連装置、FPD関連装置などを開発・製造・販売する企業である。
1960年に松下通信工業株式会社の協力会社として「有限会社東京ITV研究所」を創立する。
1962年「日本自動制御株式会社」を設立する。
1972年にLSIフォトマスク・ピンホール検査装置を、1976年にLSIフォトマスク欠陥検査装置を、それぞれ世界で初めて開発・販売する。
1986年、社名を「レーザーテック株式会社」に変更する。
2013年、東証第一部に上場する。
レーザーテック株式会社は、コア技術として共焦点光学系技術・DUV/EUV光学系技術・光干渉計技術の3つの光応用技術を持つ。
共焦点光学系技術は、同社が開発した高解像度レーザー顕微鏡をベースにした全焦点で高精細な3次元画像を得ることができる技術であり、DUV/EUV光学系技術は半導体リソグラフィの光源短波長化技術、光干渉計技術は光の位相のわずかなずれを正確に測定する技術である。
これら３つの独自の光応用技術をコア技術として、エレクトロニクス・精密機器・画像処理などの周辺技術を組み合わせ、フォトマスク関連欠陥検査装置・ウエハエッジ検査装置・ウエハ膜厚検査装置などの半導体関連装置、高精細FPDフォトマスク欠陥検査装置などのFPD関連装置、ハイブリッドレーザーマイクロスコープなどのレーザー顕微鏡、リチウム電池関連装置などの製品を開発・販売している。
主力製品であるEUVマスク欠陥検査装置は世界市場で高いシェア率を持つ。また、レーザーマイクロスコープは半導体材料・透明膜・コーティング材料・各種バイオ系試料・金属部品・プラスチック部品など幅広い材料分野で使用されている。
会社基本情報
| 郵便番号 | 〒222-8552 |
|---|---|
| 本社住所 | 神奈川県横浜市港北区新横浜2-10-1 |
| 創業年 | 1960年 |
| 資本金 | 931,000,000円 |
| 従業員数 | 402人 |
| 法人番号 | 1020001022180 |
| 会社区分 | メーカー |
| リンク | レーザーテック株式会社 ホームページ |
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