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半導体製造装置 洗浄装置 枚葉式エッチング・ 洗浄システム CENOTE ®-CENOTE ®
半導体製造装置 洗浄装置 枚葉式エッチング・ 洗浄システム CENOTE ®-タツモ株式会社

半導体製造装置 洗浄装置 枚葉式エッチング・ 洗浄システム CENOTE ®
タツモ株式会社

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この製品について

枚葉式洗浄システムCENOTE ®は、マルチカップ方式を採用した多機能枚葉式洗浄装置です。クリーンな液体をウェハ表面に連続供給すると同時に、薬液の種類、混合比率、流量、温度を正確にコントロールすることにより高清浄度洗浄、精密エッチングを実現します。

■製品特徴

・プラットホーム ウェハの両面同時処理が可能であるため、ウェハ裏面の汚染を防止でき、ウェハ裏面の後処理を省略できます。マルチカップ方式及び 各カップにおける連続数次処理により、ハイスループットを実現します。コストパフォーマンスに優れた装置です。 ・プロセスユニット 酸系薬液用処理モジュール、アルカリ系薬液用処理モジュール、有機系薬液用処理モジュールを用意し、お客様ニーズに合わせ た装置構成にも対応可能です。 2流体タイプのスプレーノズルや超音波スプレーノズルなども搭載可能であり、8および12""の口径に対応いたします。 ・操作性 視認性に優れたインターフェースを採用しています。

  • シリーズ

    半導体製造装置 洗浄装置 枚葉式エッチング・ 洗浄システム CENOTE ®

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半導体製造装置 洗浄装置 枚葉式エッチング・ 洗浄システム CENOTE ® 品番1件

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商品画像 品番 価格 (税抜) 適用ワーク
半導体製造装置 洗浄装置 枚葉式エッチング・ 洗浄システム CENOTE ®-品番-CENOTE ®

CENOTE ®

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使用用途

#半導体製造 #ディスプレイ製造 #MEMS加工 #センサー製造 #光デバイス製造 #電子部品製造 #フォトマスク加工 #ウェーハ加工 #ナノ加工 #試作開発 #学術研究

エッチング方式

ウェットエッチング型 ドライエッチング型 イオンビームエッチング型

プラズマ生成方式

高周波プラズマ型 インダクティブプラズマ型 キャパシティブプラズマ型

搬送方式

バッチ式 シングルウェハ式

対象材料

シリコン対応型 化合物半導体対応型 金属膜対応型 絶縁膜対応型

ウェハサイズ mm

50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 350

プラズマソース

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タツモ株式会社

会社概要

タツモ株式会社は、半導体製造装置や液晶製造装置などを取り扱っている企業です。 電子機能部品の製造などを目的として1972年に会社を設立しています。設立以降、1980年に全自動レジスト塗布装置、1987年にウェーハマーキ...

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  • 本社所在地: 岡山県

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