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プラズマ処理装置 マルチチャンバ ICP エッチング装置-マルチチャンバ ICP エッチング装置
プラズマ処理装置 マルチチャンバ ICP エッチング装置-神港精機株式会社

プラズマ処理装置 マルチチャンバ ICP エッチング装置
神港精機株式会社

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この製品について

エッチング室を複数装備できる新型マルチチャンバタイプエッチング装置です。 新開発ICPエッチングチャンバを2室装備可能 ・同装置は従来のMEMSプロセスSi深掘りエッチングや石英のエッチングだけでなく低開口度の犠牲層エッチングにも対応 ・独自のSiエッチングプロセスにより、インプリントプロセスにも対応 ・同装置の新エッチングプロセスは精密な基板温度制御機構とウェハクランプ機構により、優れた精度と再現性 ・高精度エッチングモニタを装備しており、通常では検知不可能な低開口部のエッチングエンドポイントをリアルタイムで管理 ・温度及びガス比率により膜種・デバイス構造に合わせた高選択比のエッチングプロセスを実現 デバイスの種類・プロセスに合わせダメージレスアッシングチャンバなど異種プロセス室の装備が可能となっています。 本装置は新型機構の採用により量産プロセスを大きく改善いたします。 ・エッチング対象物：Si , SiO2 , SiC , SiN etc. ・対応ウエハサイズ：～8inch Wafer

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    プラズマ処理装置 マルチチャンバ ICP エッチング装置

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プラズマ処理装置 マルチチャンバ ICP エッチング装置 品番1件

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この商品の取り扱い会社情報

神港精機株式会社

会社概要

神港精機株式会社は1949年に設立した、真空ポンプ・真空装置を中心にアセンブリ装置・光学検査装置を製造するメーカーです。 技術開発型の企業として、「真空技術」を応用した製造装置及びコンポーネントを主軸とした「モノづくり...

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