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CVD装置 金属熱CVD装置取扱企業
株式会社日本シード研究所カテゴリ
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半導体製造装置の製品193点中、注目ランキング上位6点
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商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 装置構成 搬送系 (標準) | 装置構成 モジュール | 真空槽 プロセス室 | 到達圧力 試料交換室 (標準) | 到達圧力 プロセス室 (標準) | 真空槽 | 排気系 主排気ポンプ | 排気系 補助ポンプ | 排気系 各種バルブ | 真空計 低真空 | 真空計 高真空 圧力制御 | 基板サイズ | 反応性ガス | 槽内アクセス アクセスドア | 制御系 主操作 | 機能 (例) 試料交換室 | 機能 (例) CVD室 | オプション 圧力制御 | オプション 水冷機構 | オプション 排気バルブ | ユーティリティ 電力 | ユーティリティ 冷却水 | ユーティリティ プロセスガス | ユーティリティ ペントガス | ユーティリティ 圧縮空気 | ユーティリティ 設置面積 |
---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
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金属熱CVD装置 |
要見積もり |
手動トランスファーロッド |
試料交換室×1室 |
熱CVD室 |
≦1.0×10^ー1Pa |
≦1.0×10^ー1Pa |
SUSチャンバ |
試料交換室、プロセス室共用:油回転真空ポンプ |
試料交換室、プロセス室共用:メカニカルブースタポンプ |
手動式 |
ピラニ真空計 |
ワイドレンジ真空計 |
MAX3インチ (付属専用ホルダ) |
H2+WF6 |
試料交換室:Oリングシール |
手動 |
トランスファーロッド |
成膜ステージ (X) |
絶対圧真空計 |
冷却水循環装置 |
自動バルブ |
3Φ AC200V 50/60Hz 50A (プロセス室構成例) |
供給圧:0.2~0.3MPa |
Ar、H2 (プロセス室構成例) |
窒素ガス |
0.5~0.8MPa |
(W×D×H) =1.7m×0.8m×1.8m |
半導体製造装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#成膜 #エッチング #洗浄 #アッシング #イオン注入 #検査 #搬送 #アライメント #パターニング #組立 #封止 #計測ウェハーサイズ mm
0 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 250 250 - 300 300 - 350チップサイズ mm
0 - 1 1 - 2 2 - 5 5 - 10 10 - 20 20 - 35基板サイズ mm
0 - 50 50 - 100 100 - 200 200 - 300 300 - 500処理能力 秒/chip
0 - 1 2 - 31ボンディング精度 μm
0 - 1 1 - 3 3 - 6 6 - 13 13 - 21電源電圧 V
90 - 120 120 - 220 220 - 260