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洗浄装置 カセット洗浄装置-TCC-803
洗浄装置 カセット洗浄装置-株式会社テクノビジョン

洗浄装置 カセット洗浄装置
株式会社テクノビジョン



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この製品について

■製品概要

モデル「TCC-803 カセット洗浄装置」は、ハイエンド、高付加価値製品の製造プロセスで用いられるウェハーカセット、キャリアー、ボックス等の精密洗浄を目的とした洗浄装置。少量多品種生産用途に適したコンパクトな装置です。 多様化する半導体デバイス、ナノ領域に入ったデザインルール、ますます高度化する環境の中で求められる歩留り向上、これらの問題をクリアするソリューションの一つにコンタミネーションコントロール (製品への不純物付着がないよう管理すること) が最重要課題として位置付けられています。 テクノビジョンが提供するカセット洗浄装置は、この様な高度清浄化をサポートする高度な洗浄ノウハウが凝縮されているキャリア・クリーナーです。 特長

■複雑な形状のワーク (ウェハ搬送容器) を考慮し、各種回転やスプレー洗浄等数多くの洗浄ノウハウを凝縮し、製品化しています。最大8インチSMIF PODまで対応。

・精密洗浄:ワークに上下、左右回転動作機能を持たせ隅々まで精密洗浄 ・強力洗浄:ウェハー収納ミゾ部全面に対し直角スプレーを実施 ・ホット純水:クリーンヒーター内蔵で、ホット純水による洗浄 ・乾燥:水切り、乾燥チャンバーの2段階乾燥 ・小フットプリント:縦型設計で、省スペース化を実現 洗浄プロセス

■洗浄では、「洗浄」→「リンス」→「乾燥1」→「乾燥2」・「静電気除去」のプロセスを自動運転します。

・WASH (洗浄) :複雑な形状のカセット、ボックス等を精密洗浄 ・RINSE (リンス) :洗浄時に界面活性剤を使った場合のリンス工程 ・DRY-1 (乾燥-1) :エアーナイフによる水切り工程 ・DRY-2 (乾燥-2) :Low Flow ホットエアーナイフによるファイナルドライ ・ESD (静電気除去) :静電気を除去し、塵埃の付着を防止

  • シリーズ

    洗浄装置 カセット洗浄装置

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洗浄装置 カセット洗浄装置 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜)
洗浄装置 カセット洗浄装置-品番-TCC-803

TCC-803

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使用用途

#除菌殺菌 #乾燥 #精密洗浄 #異物除去 #脱脂 #油分除去 #容器洗浄 #タンク洗浄

洗浄方式

超音波洗浄型 スプレー洗浄型 浸漬洗浄型 真空洗浄型 アーチ旋回洗浄 スチーム洗浄 ブラシ洗浄 温水洗浄 乾式洗浄 高圧洗浄 循環洗浄 洗剤洗浄 超音波洗浄 噴射洗浄 泡洗浄 薬液洗浄

洗浄媒体

水系洗浄型 溶剤洗浄型

搬送方式

バッチ型 インライン型

乾燥方式

温風乾燥型 真空乾燥型

消費電力 kW

0 - 1 1 - 10 10 - 50 50 - 100 100 - 500

電源電圧 V

0 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 260

タンク容量

0 - 10 10 - 50 50 - 100 100 - 200 200 - 500 500 - 1,000 1,000 - 1,500 1,500 - 4,500

洗浄液

アルカリ性界面活性剤 ゲルピカラボ スチーム パインアルファ プロピレングリコール 市水 純水 水石鹸液 精製水 専用アルカリ洗剤 専用酵素洗剤 中性洗剤 溶剤

対象ワーク

ウェハー オリコン カブ ガラス瓶 クレート ゴボウ コンテナ プラスチックトレー マスク メタルマスク 基板 金型 人参 大根

駆動方式

ダブルモーター エア駆動 シングルモーター ギヤ駆動 軸流タービン コンベア駆動 ペルトン型タービン トリプルウォッシュ スパイラル搬送

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

株式会社テクノビジョンは、半導体製造装置の開発・製造と輸出輸入業を行う会社です。 1987年に埼玉県で設立されました。各種洗浄装置の開発・販売を中心に事業を展開し、海外メーカーからの受注や、台湾・中国・欧州で販売代理店...

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  • 本社所在地: 埼玉県
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