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nanoETCH ソフトエッチング装置 Model. ETCH5A-ETCH5A
nanoETCH ソフトエッチング装置 Model. ETCH5A-テルモセラ・ジャパン株式会社

nanoETCH ソフトエッチング装置 Model. ETCH5A
テルモセラ・ジャパン株式会社

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この製品について

■概要

<30W (制御精度10mW) 低出力 RFエッチングによるダメージレスエッチング欧州アカデミックパートナーとの共同開発技術「Soft-Etching」テクノロジー。英国MoorfieldNanotechnology社のʼnanoETCHʼソフトエッチング装置は、センシティブでデリケートなエッチング制御を必要とする材料に対応するローパワーソフトエッチング、RIE (反応性プラズマエッチング) 、及び表面改質クリーニング、など様々な用途で活用頂けます。

■主なアプリケーション

・ 2D (遷移金属カルゴゲナイド, 材料転写後のグラフェン剥離) :表面改質 ・PMMA, PPA等のポリマーレジスト除去 ・テフロン基板などのダメージを受けやすい基板での表面改質、エッチング ・h-BNサイドウオールエッチング (*『フッ化ガス供給モジュール』オプション要) ・SiO2エッチング (*『フッ化ガス供給モジュール』オプション要)

  • シリーズ

    nanoETCH ソフトエッチング装置 Model. ETCH5A

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nanoETCH ソフトエッチング装置 Model. ETCH5A 品番1件

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商品画像 品番 価格 (税抜) ウエハーサイズ プロセスガス 真空排気系 到達真空度 プラズマ電源 ユーティリティ 電源 ユーティリティ プロセスガス ユーティリティ ベントガス ユーティリティ 冷却水 ユーティリティ 圧縮空気 オプション
nanoETCH ソフトエッチング装置 Model. ETCH5A-品番-ETCH5A

ETCH5A

要見積もり

Φ3inch (標準) 、又はΦ4inch、最大Φ6inch

最大3系統MFC (Ar, O2標準, N2オプション)

ターボ分子ポンプ、ロータリーポンプ、WRGワイドレンジゲージ

5×10-5Pa

RF<30W 自動マッチングユニット付属

200V 単相 20A

25psi (0.17Mpa) 99.99%推奨

5-6psi (34-41kpa)

1L/min <4bar (400kpa) , 18-20℃

60-80psi (413-550Mpa)

・APC プロセス圧力自動制御パッケージ, DC電源ユニット
・キャパシタンスマノメータ
・フッ化ガス供給モジュール (SF6, CHF3) , ドライスクロールポンプ

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エッチング装置をフィルターから探すことができます

使用用途

#半導体製造 #ディスプレイ製造 #MEMS加工 #センサー製造 #光デバイス製造 #電子部品製造 #フォトマスク加工 #ウェーハ加工 #ナノ加工 #試作開発 #学術研究

ウェハサイズ mm

50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 350

プラズマソース

CCP型 ICP RF プラズマ マイクロ波

圧力制御

APC制御 FAPC

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この商品の取り扱い会社情報

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返答時間

29.2時間

会社概要

半導体・電子部品などの研究・開発・製造プロセスに必要な要素である「熱」応用製品の販売を基盤とし、「基板加熱ヒーター」「温度計測機器」「実験炉」「薄膜実験装置」他企画開発商品の販売を行うことにより先端分野発展の一旦を担い、...

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  • 本社所在地: 東京都
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