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破面蒸着保護膜形成装置 FDP-500-Ⅱ型-FDP-500-Ⅱ型
破面蒸着保護膜形成装置 FDP-500-Ⅱ型-アトーテック株式会社

破面蒸着保護膜形成装置 FDP-500-Ⅱ型
アトーテック株式会社



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この製品について

本装置は各種金属、合金材料などを極高真空中 (X10-9Pa) で低温 (~100K) にして機械的衝撃により破断させた後直ぐに破面にNi等の真空蒸着を行う為に開発された装置です。これに、材料の脆性破壊で生じた破面をそのまま保護することが出来るため3次元アトムプロープ観察等による破面の各種分析を行う事ができます。

■構成

・メインチャンバー ・試料交換室 ・真空排気系 RP (150L/min) 、TMP (550L/sec、60L/sec) 、ゲード弁 (CF203、CF152) アクターポンプ (ULVAC) 、 (PST-200AXII型N20.2m3/s) ・極高真空計 AXTRAN (ULVAC) (10-11Pa台) ・Kセルタイプ蒸発源

  • シリーズ

    破面蒸着保護膜形成装置 FDP-500-Ⅱ型

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破面蒸着保護膜形成装置 FDP-500-Ⅱ型 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜)
破面蒸着保護膜形成装置 FDP-500-Ⅱ型-品番-FDP-500-Ⅱ型

FDP-500-Ⅱ型

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

アトーテック株式会社は、1989年に設立された真空装置メーカーです。 一般社団法人日本真空学会に加盟し、半導体製造などに用いられる容器の内部から気体を排出させて、容器内を真空状態にする真空ポンプや、半導体製造や医薬品の...

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  • 本社所在地: 東京都
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