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SiCウェーハ向け枚葉式自動洗浄装置-SiCウェーハ向け枚葉式自動洗浄装置
SiCウェーハ向け枚葉式自動洗浄装置-PHT株式会社

SiCウェーハ向け枚葉式自動洗浄装置
PHT株式会社

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この製品について

■装置開発背景

半導体用基板として最も多く使用されているのはSi基板 (シリコンウェーハ) である。近年では、パワー半導体用基板としてSiC基板 (シリコンカーバイドウェーハ) が脚光を浴びている。基板の洗浄手段としては化学的洗浄と物理的洗浄の二つに大別される。 (化学的洗浄 薬品によるエッチング等で基板表面を清浄にする手法。物理的洗浄 超音波・高圧水等の物理的衝撃により基板表面のパーティクル等を除去する手法。) Si基板は主にRCA洗浄に代表される化学的洗浄を用いて洗浄を行っている。一部の洗浄においては、超音波を加え化学的洗浄と物理的洗浄を組み合わせる事でより洗浄効果を上げている。SiC基板は化学的に安定した基板である。その為にSi基板と同じ手法ではその洗浄効果をあげることは困難である。しかし、Si面に酸化膜を形成することにより、化学的洗浄が可能となり、洗浄効果をあげる事ができると考えられる。

■SiCウェーハ洗浄の基本手法

Si面にO3水を用いて強制的にSiO2膜を形成する。HFにてSiO2膜を除去。

■概要

本装置は、φ150mm (6") ・φ200mm (8") 対応の SiCウェーハ枚葉式洗浄装置です。ウェーハは、25枚入カセットでLD側に作業者がセットします。洗浄後のウェーハは、ULD側にセットされたクリーンなカセットに収納されます。

■プロセス

LD(水中)→ 両面ブラシスクラブ → O3水を用いて強制的にSiO2膜を形成後HFにてSiO2膜を除去しリンス洗浄 → 超音波シャワー洗浄 → スピン乾燥 → ULD(空中)となります。

■【処理物】

1. SiCウェーハφ150mm・φ200mm ノッチ・オリフラ   直径:φ150mm±0.2mm・φ200mm±0.2mm   厚さ:385~600μm   反り:40μm以下   接触可能範囲エッジ部及び外周から2mmの範囲 2. カセット   LD側カセット:SEMI規格品→PFAキャキア(25枚入)   ULD側カセット:SEMI規格品→PPキャキア(25枚入)   φ150mm(6")ウェーハ収納ピッチ:4.7625mm   φ200mm(8")ウェーハ収納ピッチ:6.35mm

■スループット

タクトタイム:60秒/1枚【φ150mm(6")】 タクトタイム:45秒/1枚【φ200mm(8")】

  • シリーズ

    SiCウェーハ向け枚葉式自動洗浄装置

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SiCウェーハ向け枚葉式自動洗浄装置 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 対応サイズ
SiCウェーハ向け枚葉式自動洗浄装置-品番-SiCウェーハ向け枚葉式自動洗浄装置

SiCウェーハ向け枚葉式自動洗浄装置

要見積もり

6インチ、8インチ

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洗浄装置をフィルターから探すことができます

使用用途

#除菌殺菌 #乾燥 #精密洗浄 #異物除去 #脱脂 #油分除去 #容器洗浄 #タンク洗浄

洗浄方式

アーチ旋回洗浄 スチーム洗浄 ブラシ洗浄 温水洗浄 乾式洗浄 高圧洗浄 循環洗浄 洗剤洗浄 超音波洗浄 噴射洗浄 泡洗浄 薬液洗浄

消費電力 kW

0 - 1 1 - 10 10 - 50 50 - 100 100 - 500

電源電圧 V

0 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 260

タンク容量

0 - 10 10 - 50 50 - 100 100 - 200 200 - 500 500 - 1,000 1,000 - 1,500 1,500 - 4,500

洗浄液

アルカリ性界面活性剤 ゲルピカラボ スチーム パインアルファ プロピレングリコール 市水 純水 水石鹸液 精製水 専用アルカリ洗剤 専用酵素洗剤 中性洗剤 溶剤

対象ワーク

ウェハー オリコン カブ ガラス瓶 クレート ゴボウ コンテナ プラスチックトレー マスク メタルマスク 基板 金型 人参 大根

駆動方式

ダブルモーター エア駆動 シングルモーター ギヤ駆動 軸流タービン コンベア駆動 ペルトン型タービン トリプルウォッシュ スパイラル搬送

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この商品の取り扱い会社情報

返答率

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返答時間

57.3時間

会社概要

PHT株式会社は半導体搬送システム事業、半導体洗浄装置事業を行う企業です。

特徴
PHTは半導体業界の中でウェーハ自動剥離装置(剥離洗浄機)のニッチトップ企業として世界に活躍いたします。

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  • 本社所在地: 東京都
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