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シリーズ
MBE装置取扱企業
アリオス株式会社カテゴリ
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蒸着装置の製品92点中、注目ランキング上位6点
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次の条件に該当する商品を1件表示しています
商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 排気系 | 到達圧力 | 基板回転加熱機構 | 分子線セル | 材質 チャンバー本体 | 材質 液体窒素シュラウド | 材質 ベローズ部 | 材質 加熱部 | 材質 真空内ヒーターリード線 | 用力 単相 | 用力 圧縮空気 (バルブ作動用) | 用力 乾燥窒素 (大気解放用) | 用力 液体窒素 |
---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
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MBE装置 |
要見積もり |
イオンポンプ、ターボ分子ポンプ、TSP、クライオポンプ等、各種ポンプの選択、組み合わせが可能 |
1×10^-8Pa以下 (成膜室にて液体窒素導入時) |
最高800℃ (高温仕様1,000℃) 、1"~6"対応可能 |
標準4~8本取り付け (φ114CF) 、5cc~100cc、高温~低温まで各種対応可能 |
SUS 304 (又は 304L 又は 316) |
SUS 316L |
SUS 304 |
Mo 及び Ta、Al2 O3 、カーボン |
Ag (Au、Ni、Al) |
AC100V、三相 : AC200V |
0.5~0.7MPa |
0.1~0.5MPa |
0.05MPa |
蒸着装置の中で同じ条件の製品
基板加熱温度: 800 - 1000℃
蒸着装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#研究開発 #金属膜 #有機エレクトロニクス #電子顕微鏡試料 #多層膜 #電子部品半導体 #超高真空 #MBE #保護膜排気時間 分
10 - 15 15 - 20 20 - 25排気系主ポンプ
クライオポンプ 油拡散ポンプ ターボ分子ポンプ操作方法
全自動 手動 自動基板サイズ mm
50 - 100 100 - 200 200 - 300 300 - 1,000 1,000 - 3,000チャンバーサイズ mm
150 - 200 200 - 250 250 - 300 300 - 350 350 - 400蒸発方式
抵抗加熱 電子銃 高周波誘導加熱基板加熱温度 ℃
100 - 500 500 - 800 800 - 1,000膜厚分布 %
1 - 5 5 - 15