全てのカテゴリ

閲覧履歴

真空 直接気化式-薄膜形成装置 DH-CVD-DH-CVD
真空 直接気化式-薄膜形成装置 DH-CVD-株式会社魁半導体

真空 直接気化式-薄膜形成装置 DH-CVD
株式会社魁半導体

株式会社魁半導体の対応状況

返答率

100.0%

返答時間

120.0時間


無料
見積もり費用は無料です、お気軽にご利用ください

電話番号不要
不必要に電話がかかってくる心配はありません

この製品について

業界初、液体原料から直接成膜する安全なプラズマ CVD。

■製品概要

・魁半導体独自の「DH-CVD」技術を応用した薄膜形成装置 ・有機金属系の材料も危険なガスを使わず安全に使用可能 ・液体気化装置、流量制御装置が不要なため低コスト ・簡便な操作で薄膜形成が可能 ・ガスと比べて原料の取り扱いが容易

■成膜溶液

・配合液1 SiO2膜溶液 ・配合液2 炭素水素膜/含有元素選択炭水素膜用溶液 (ご要望に合わせたカスタム配合) ・配合液3 金属酸化膜用溶液 (ご要望に合わせたカスタム配合)

  • シリーズ

    真空 直接気化式-薄膜形成装置 DH-CVD

この製品を共有する


280人以上が見ています

最新の閲覧: 21分前


返答率: 100.0%


無料
見積もり費用は無料のため、お気軽にご利用ください

電話番号不要
不必要に電話がかかってくる心配はありません


プラズマCVD装置注目ランキング

もっと見る

プラズマCVD装置の製品24点中、注目ランキング上位6点

電話番号不要

何社からも電話が来る心配はありません

一括見積もり

複数社に同じ内容の記入は不要です

返答率96%

96%以上の方が返答を受け取っています

プラズマCVD装置注目ランキング (対応の早い企業)

返答時間が24時間以内の企業の中での注目ランキング

電話番号不要

何社からも電話が来る心配はありません

一括見積もり

複数社に同じ内容の記入は不要です

返答率96%

96%以上の方が返答を受け取っています


真空 直接気化式-薄膜形成装置 DH-CVD 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 外形寸法 電極ステージ 重量 放電方式 高圧電源 出力調整 ガス導入 排気流量調節 真空計 タイマー 電源
真空 直接気化式-薄膜形成装置 DH-CVD-品番-DH-CVD

DH-CVD

要見積もり

560mm (W) ×560mm (D) ×400mm (H)

直径400mmステンレス鋼製 (オプションで変更可)

200

交流平行平板式

交流 (電源周波数に同期)

手動調節

なし

なし (オプションで追加可)

なし (オプションで追加可)

0~9,999秒の間でプラズマ照射時間を設定

単相200V,15A (50Hz/60Hz)
※ポンプ用電源を含む

この商品を見た方はこちらもチェックしています

プラズマCVD装置をもっと見る

魁半導体の取り扱い製品

魁半導体の製品をもっと見る

この商品の取り扱い会社情報

返答率

100.0%


返答時間

120.0時間

会社概要

株式会社魁半導体は、プラズマによる材質の表面処理や洗浄などを用いた各種半導体製造装置を開発・製造・販売するメーカーです。 2002年に京都工芸繊維大学発ベンチャーとして学内で創業し、2007年に株式会社魁半導体を設立し...

もっと見る

  • 本社所在地: 京都府
Copyright © 2024 Metoree