真空直接気化式-薄膜形成装置 DH-CVD
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この製品について

業界初、液体原料から直接成膜する安全なプラズマ CVD。

■製品概要・魁半導体独自の「DH-CVD」技術を応用した薄膜形成装置
・有機金属系の材料も危険なガスを使わず安全に使用可能
・液体気化装置、流量制御装置が不要なため低コスト
・簡便な操作で薄膜形成が可能
・ガスと比べて原料の取り扱いが容易

■成膜溶液・配合液1 SiO2膜溶液
・配合液2 炭素水素膜/含有元素選択炭水素膜用溶液  (ご要望に合わせたカスタム配合)  
・配合液3 金属酸化膜用溶液  (ご要望に合わせたカスタム配合)  

型番
この商品には1種類の型番があります

シリーズ
真空直接気化式-薄膜形成装置 DH-CVD

取扱企業
株式会社魁半導体

カテゴリ

加工・工作機器

プラズマCVD装置

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真空直接気化式-薄膜形成装置 DH-CVD 品番1件

商品画像	品番	価格 (税抜)	外形寸法	電極ステージ	重量	放電方式	高圧電源	出力調整	ガス導入	排気流量調節	真空計	タイマー	電源
	DH-CVD	要見積もり	560mm (W) ×560mm (D) ×400mm (H)	直径400mmステンレス鋼製 (オプションで変更可)	200	交流平行平板式	交流 (電源周波数に同期)	手動調節	なし	なし (オプションで追加可)	なし (オプションで追加可)	0~9,999秒の間でプラズマ照射時間を設定	単相200V,15A (50Hz/60Hz) ※ポンプ用電源を含む