真空 直接気化式-薄膜形成装置 DH-CVD
株式会社魁半導体
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返答率
100.0%
この製品について
■製品概要
・魁半導体独自の「DH-CVD」技術を応用した薄膜形成装置 ・有機金属系の材料も危険なガスを使わず安全に使用可能 ・液体気化装置、流量制御装置が不要なため低コスト ・簡便な操作で薄膜形成が可能 ・ガスと比べて原料の取り扱いが容易■成膜溶液
・配合液1 SiO2膜溶液 ・配合液2 炭素水素膜/含有元素選択炭水素膜用溶液 (ご要望に合わせたカスタム配合) ・配合液3 金属酸化膜用溶液 (ご要望に合わせたカスタム配合)-
シリーズ
真空 直接気化式-薄膜形成装置 DH-CVD
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取扱企業
株式会社魁半導体
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真空 直接気化式-薄膜形成装置 DH-CVD 品番1件
| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 外形寸法 | 電極ステージ | 重量 | 放電方式 | 高圧電源 | 出力調整 | ガス導入 | 排気流量調節 | 真空計 | タイマー | 電源 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
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DH-CVD |
要見積もり | 560mm (W) ×560mm (D) ×400mm (H) | 直径400mmステンレス鋼製 (オプションで変更可) | 200 | 交流平行平板式 | 交流 (電源周波数に同期) | 手動調節 | なし | なし (オプションで追加可) | なし (オプションで追加可) | 0~9,999秒の間でプラズマ照射時間を設定 |
単相200V,15A (50Hz/60Hz) ※ポンプ用電源を含む |
のついている項目名や値は、Metoreeの自然言語処理アルゴリズムを用いて自動生成された値です。各メーカーの製品を横断して比較しやすくするための参考としてご利用ください。自動生成データは黒色の文字、元データは灰色の文字です。
