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原子層堆積装置 ALD Series-株式会社昭和真空

ALD Series | 原子層堆積装置 ALD Series
株式会社昭和真空

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排気ポンプ

TMP＋DRP

設置寸法

W3,200mm×D3,200×H2,600mm

重量

1,200kg

電源容量

AC200V (3Φ) ／39.5kVA (114A)

この製品について

■複雑な形状の基板への成膜に最適

ALD (AtomicLayerDeposition) 法は従来のCVD,PVDに比べ「ピンホールフリー」、「段差被覆性」、「精密な膜厚制御性」、「膜厚バラツキが小さい」といった優位性が有ります。また、プラズマを使用するPE-ALDでは低温成膜が可能となり、プラスチックのように熱的に脆い材料にも適用可能です。 ・対応膜種：SiO2，TiO2，Al2O3

■用途・応用例

高曲率レンズへの光学コーティング、絶縁目的の誘電体コーティング、各種デバイスのガス透過バリア、複雑な形状の基板への成膜

■特長

・単原子層ずつ成膜するため、膜厚制御性に優れている ・高アスペクト比の基板に対しても付き回りよく成膜することが可能 ・低温成膜が可能 (RT～120℃) ・基板面内分布に優れている ・φ8インチ基板 24枚一括処理 ・基板回転機構

  • 型番

    ALD Series

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原子層堆積装置 ALD Series ALD Seriesの性能表

商品画像 価格 (税抜) 排気ポンプ 設置寸法 重量 電源容量
原子層堆積装置 ALD Series-品番-ALD Series 要見積もり TMP＋DRP W3,200mm×D3,200×H2,600mm 1,200kg AC200V (3Φ) ／39.5kVA (114A)

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フィルターから探す

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使用用途

#コンフォーマルコート #パッシベーション層 #バリア層 #凹凸覆膜 #色度制御 #絶縁層 #低温処理 #硫化抑制

機能

単層ALD 複層ALD 高速ALD

温度管理

高温ALD 低温ALD

処理基板 ¢mm

50 - 150 150 - 250 250 - 350 350 - 700 700 - 1,400

スパッタ方向

アップ ダウン

スパッタ電源

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株式会社昭和真空

会社概要

株式会社昭和真空は、1958年に設立された、真空関連装置メーカーです。 2000年にはJASDAQ上場（現在は東証スタンダード市場）を果たします。 真空技術を中心とした、装置製造を軸としており、全て受注生産であることが...

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  • 本社所在地: 神奈川県

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