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Atomic Layer Deposition (原子層堆積) -株式会社北海光電子

原子層堆積装置 | Atomic Layer Deposition (原子層堆積)
株式会社北海光電子

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ウエハーサイズ

4インチ

排気系

ドライポンプ

到達真空度

5Pa以下

制御系

制御用PLC/タッチパネル

成膜用ガス導入バルブ

4基

パージガス導入バルブ

1基

電源

三相200V/50A

圧縮空気導入口

ф6mm

基板ヒーター

350℃MAX (ф130)

この製品について

■製品概要

真空チャンバー内容基板上に、次のサイクルを繰り返し行うことにより、原子層を一層ずつ積み上げます。 ・ヒートコントロールにより有機金属分子を表面へ吸着 ・化学反応による製膜 ・パージによる余剰分子の取り除き 反応による製膜過程は、化学反応のはたらきで一原子層レベルの均一なレイヤーコントロールが可能になり、高品質な段差被覆性 (凹凸など) の高い幕を形成することが可能です。

■特徴

・排気系を工夫することで、コンタミを防ぎます。 ・ヒータコントロールの均一性を高めました。 ・各ソースの流れの温度をコントロールすることで、再現性を高めています。 ・精密なバルブ制御で常に一定のソースを供給します。 ・独自の設計によりチャンバーへの熱伝導を抑えます。 ・縦型量子ドットに均一で高耐圧なAl₂O₃ゲート絶縁膜等を制御性よく簡便に成膜できます。 ・三次元的な凹凸に成膜可能です。

  • 型番

    原子層堆積装置

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Atomic Layer Deposition (原子層堆積) 原子層堆積装置の性能表

商品画像 価格 (税抜) ウエハーサイズ 排気系 到達真空度 制御系 成膜用ガス導入バルブ パージガス導入バルブ 電源 圧縮空気導入口 基板ヒーター その他
Atomic Layer Deposition (原子層堆積) -品番-原子層堆積装置 要見積もり 4インチ ドライポンプ 5Pa以下 制御用PLC/タッチパネル 4基 1基 三相200V/50A ф6mm 350℃MAX (ф130)

非常停止機能付


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