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原子層堆積装置 ALDシリーズ-三弘エマテック株式会社

三弘エマテック株式会社の対応状況 返信の比較的早い企業

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この製品について

ALD (Atomic Layer Deposition) とは原子層堆積法という単原子層を1サイクルで成膜する手法で、サイクルを操り返すことにより薄膜を形成します。原子層レベルの均一なレイヤーコントロールが可能で、高品質かつ段差被覆性の高い薄膜を形成することが可能となります。複雑な形状の基板への成膜に最適です。ガスバリア性に優れた薄膜が得られます。

■対応膜種

SiO2 TiO2 Al2O3

■概要

・φ4インチ基板 25枚一括処理 ・基板回転機構 ・基板加熱:25~120℃

■特徴

・単原子層ずつ成膜するため、膜厚制御性に優れています。 ・高アスペクト比の基板に対しても付き回りよく成膜することが可能です。 ・基板温度を抑え成膜することが可能です。 ・基板面内分布に優れています。

■主な用途

・LED (色度調整、Ag硫化防止膜) ・電子デバイス (絶縁膜、バリアメタル) ・ガスバリア膜、水蒸気バリア膜 ・複雑な形状の基板への成膜

  • 型番

    ALD

企業レビュー 4.8

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2025年8月4日にレビュー済み

顧客対応への満足度

即日、翌日応答は頂けませんでしたが、ご返答内容も適切な対応でした。ありがとうございました。

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使用用途

#コンフォーマルコート #パッシベーション層 #バリア層 #凹凸覆膜 #色度制御 #絶縁層 #低温処理 #硫化抑制

機能

単層ALD 複層ALD 高速ALD

温度管理

高温ALD 低温ALD

処理基板 ¢mm

50 - 150 150 - 250 250 - 350 350 - 700 700 - 1,400

スパッタ方向

アップ ダウン

スパッタ電源

0 - 1 1 - 5 5 - 20

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この商品の取り扱い会社情報

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25.4時間


企業レビュー

4.8

会社概要

三弘エマテック株式会社は、1975年に設立された、真空機器、装置等の販売を行う企業です。

「真空技術」を軸とした、ポンプや分析機器、理化学機械を取り扱います。取り扱うメーカーは200社以上あり、顧客のニ...

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  • 本社所在地: 愛知県

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