全てのカテゴリ

閲覧履歴

PSII方式マルチPVD成膜装置 <NPSシリーズ>-ナノテック株式会社

ナノテック株式会社の対応状況 返信の比較的早い企業

返答率

100.0%

返答時間

16.8時間

全型番で同じ値の指標

基板ホルダー

自公転式(製品形状に応じて特注製作可能)

搭載放電システム

・PSII電源(標準)、DLCイオン源(イオン化蒸着源)・スパッタリング、イオン注入源

到達圧力

6.7E-4Pa以下

排気速度

6.7E-3Pa以下まで30分以内

基板加熱機構

オプション(シースヒーター、ランプヒーター等)

基板バイアス

MAX20kV500mA0.2~2kHzDUTY5~50%

装置制御

レシピ画面設定による完全自動運転※一部複合型は除く

排気系

ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ

冷却水

3kgf/cm220~40L/min

圧縮空気

6kgf/cm2以上

この製品について

イオン化蒸着法によるDLC成膜を基本として、幅広いアプリケーションに対応すべく新開発のPSII電源を標準で搭載し、その放電パラーメータによるDLC膜の塑性制御を容易にし、更に多層膜や複数の原料を使用してドーピング成膜をすることで、全く新しい特性のDLC膜も処理が可能。量産用生産機から開発を目的とした実験機と、あらゆる用途に適応します。

  • 型番

    NPS-1000

この製品を共有する


750人以上が見ています

最新の閲覧: 6時間前


返答率: 100.0%

返答時間: 16.8時間


無料
見積もり費用は無料です、お気軽にご利用ください

電話番号不要
不必要に電話がかかってくる心配はありません

ALD装置注目ランキング (対応の早い企業)

返答時間が24時間以内の企業の中での注目ランキング

電話番号不要

何社からも電話が来る心配はありません

一括見積もり

複数社に同じ内容の記入は不要です

返答率96%

96%以上の方が返答を受け取っています


PSII方式マルチPVD成膜装置 <NPSシリーズ> NPS-1000の性能表

商品画像 価格 (税抜) 真空槽(mm) 有効エリア(mm) 基板ホルダー 搭載放電システム 到達圧力 排気速度 基板加熱機構 基板バイアス 装置制御 排気系 所要電力 設置面積(M) 冷却水 圧縮空気
PSII方式マルチPVD成膜装置 <NPSシリーズ>-品番-NPS-1000 要見積もり φ1000×900H φ600×500L 自公転式(製品形状に応じて特注製作可能) ・PSII電源(標準)、DLCイオン源(イオン化蒸着源)・スパッタリング、イオン注入源 6.7E-4Pa以下 6.7E-3Pa以下まで30分以内 オプション(シースヒーター、ランプヒーター等) MAX20kV500mA0.2~2kHzDUTY5~50% レシピ画面設定による完全自動運転※一部複合型は除く ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ 3φ200V30kVA~ 4.0W×4.0D×2.5H 3kgf/cm220~40L/min 6kgf/cm2以上

全3種類の型番を一覧でみる

フィルターから探す

ALD装置をフィルターから探すことができます

使用用途

#コンフォーマルコート #パッシベーション層 #バリア層 #凹凸覆膜 #色度制御 #絶縁層 #低温処理 #硫化抑制

処理基板 ¢mm

50 - 150 150 - 250 250 - 350 350 - 700 700 - 1,400

スパッタ方向

アップ ダウン

スパッタ電源

0 - 1 1 - 5 5 - 20

この商品を見た方はこちらもチェックしています

ALD装置をもっと見る

この商品の取り扱い会社情報

返答率

100.0%


返答時間

16.8時間

会社概要

ナノテック株式会社は、真空を利用した金属及びセラミック表面改質装置の製造販売などを行う企業です。 真空利用だけではなく、プラズマ利用による金属加工装置の販売を行っています。また、材料の特性を評価する試験装置の輸入や...

もっと見る

  • 本社所在地: 千葉県

この商品の該当カテゴリ

Copyright © 2025 Metoree