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熱+プラズマCVD装置-株式会社MPS

熱+プラズマCVD装置 | 熱+プラズマCVD装置
株式会社MPS

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この製品について

■概要

窒化物を作るための実験装置です。原料は塩化物とアンモニアを使用します。成膜はハロゲンランプ加熱による熱CVDと誘導結合プラズマによるプラズマCVDが選択できます。両方式の併用も可能です。

  • 型番

    熱+プラズマCVD装置

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使用用途

#センサー開発 #ディスプレイ製造 #バリア膜形成 #研究開発 #光学部品製造 #絶縁膜形成 #太陽電池製造 #電子部品製造 #半導体製造 #表面改質

基板加熱温度 ℃

0 - 300 300 - 500 500 - 800 800 - 1,000 1,000 - 1,200

制御操作

PC PLC タッチパネル

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株式会社MPSは、2004年に設立した、電子ビーム溶接をはじめとする真空機器の製造・販売をしている会社です。 主な事業内容は、電子ビーム溶接機、成膜装置、真空装置用コンポーネントの製造・販売になります。 真空機器や溶接...

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  • 本社所在地: 千葉県

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